[发明专利]使用解剖列表模式掩模的PET成像无效
申请号: | 200680041671.6 | 申请日: | 2006-10-17 |
公开(公告)号: | CN101305297A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | D·加尼翁;W·王;Z·胡 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G06T11/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 解剖 列表 模式 pet 成像 | ||
1.一种用于对在对象的正电子发射断层摄影扫描期间采集的列表模式 数据进行重建的方法,所述数据包括指示多个所探测的正电子湮灭事件的 信息,所述方法包括:
定义与感兴趣区域相关的投影掩模;
识别在所述感兴趣区域中发生的所探测的列表模式事件;
定义与所述感兴趣区域相关的图像掩模;
使用包括射线跟踪操作的迭代重建技术对所识别的列表模式事件进行 重建,以生成指示所述感兴趣区域的断层摄影数据,其中,所述射线跟踪 操作仅仅跟踪位于所述感兴趣区域中的图像矩阵元素并且所述射线跟踪操 作包括通过将界外值指定给位于所述感兴趣区域外的图像矩阵元素来使用 所述图像掩模识别位于所述感兴趣区域内的图像矩阵元素;和
生成指示所述断层摄影数据的图像,
其中,识别在感兴趣区域中发生的所探测的列表模式事件的步骤包括 将所述投影掩模施加于所述多个所探测的正电子湮灭事件。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,定义图像掩模的步骤包括如下 步骤:
获得指示所述对象的非PET成像模态扫描数据;
将所述非PET成像模态扫描数据映射到PET图像元素维数中;和
分割所映射的非PET成像模态扫描图像数据。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,定义投影掩模的步骤包括如下 步骤:
获得指示所述对象的非PET成像模态扫描数据;
将所述非PET成像模态扫描数据正向投影到投影空间中;和
对所述正向投影的数据进行阈值比较。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述投影掩模和所述图像掩模 都比所述感兴趣区域大。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个正电子湮灭事件包括 多个列表模式LOR,并且所述重建步骤还包括如下步骤:
确定LOR是否位于所述投影掩模中;并且
如果所述LOR位于所述投影掩模中,则使用所述LOR跟踪不具有所 述界外值的图像元素。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个正电子湮灭事件包括 具有TOF信息的多个列表模式LOR,并且所述重建步骤还包括如下步骤:
使用所述TOF信息来确定由LOR表示的湮灭事件位于所述投影掩模 中的发生概率;和
如果所述发生概率指示由所述LOR表示的所述湮灭事件位于所述投影 掩模中,则使用所述LOR跟踪不具有所述界外值的图像元素。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,对所识别的列表模式事件进行 重建的步骤包括如下步骤:
使用湮灭事件TOF信息来确定由LOR表示的事件位于所述投影掩模 中的发生概率;和
如果所述发生概率指示由所述LOR表示的所述湮灭事件位于所述投影 掩模中,则使用所述LOR跟踪位于所述感兴趣区域中的图像元素。
8.一种用于对在对象的正电子发射断层摄影扫描期间采集的列表模式 数据进行重建的设备,所述数据包括指示多个所探测的正电子湮灭事件的 信息,所述设备包括:
重建装置(129),配置为定义与感兴趣区域相关的投影掩模并且通过 将投影掩模施加于所述多个所探测的正电子湮灭事件识别在所述感兴趣区 域中发生的所探测的列表模式事件;
所述重建装置(129)还配置为定义与所述感兴趣区域相关的图像掩模 并使用包括射线跟踪操作的迭代重建技术对所识别的列表模式事件进行重 建,以生成指示所述感兴趣区域的断层摄影数据,其中,所述射线跟踪操 作仅仅跟踪位于所述感兴趣区域中的图像矩阵元素并且所述射线跟踪操作 包括通过将界外值指定给位于所述感兴趣区域外的图像矩阵元素来使用所 述图像掩模识别位于所述感兴趣区域内的图像矩阵元素;和
显示部件(128),用于生成指示所述断层摄影数据的图像。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680041671.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型漏电保护插座
- 下一篇:化解反冲力式电动喷枪