[发明专利]增亮膜以及对无机纳米颗粒进行表面处理的方法

权利要求书

1.一种增亮膜，其包含可聚合树脂组合物的反应产物，所述组合物包 含经一元羧酸表面处理剂表面改性的无机纳米颗粒，所述一元羧酸 表面处理剂的折射率至少为1.50并且具有式A-B，其中A是能够连 接到纳米颗粒表面上的羧酸基团，并且B是具有芳基的相容性基 团。

2.根据权利要求1所述的增亮膜，其中所述表面处理剂具有邻苯二甲 酸酯基。

3.根据权利要求1所述的增亮膜，其中所述表面处理剂还包含至少一 种聚醚一元羧酸。

4.根据权利要求1所述的增亮膜，其中所述无机纳米颗粒包含吸附的 挥发性酸，并且所述增亮膜中的所述挥发性酸的含量低于3重量 ％。

5.根据权利要求4所述的增亮膜，其中所述挥发性酸为丙烯酸、甲基 丙烯酸、乙酸、或它们的混合物。

6.根据权利要求4所述的增亮膜，其中所述增亮膜包含非挥发性酸， 其含量最多为15重量％。

7.根据权利要求1所述的增亮膜，其中所述无机纳米颗粒的含量范围 为40重量％至60重量％。

8.根据权利要求1所述的增亮膜，其中所述无机纳米颗粒选自：氧化 锆、二氧化钛、以及它们的混合物。

9.一种光学制品，其包含可聚合树脂组合物的反应产物，所述组合物包 含经表面改性的无机纳米颗粒，所述表面改性采用的是具有至少一 个极性基团的一元羧酸增容剂以及选自下面的至少一种表面处理 剂：

i)至少一种折射率至少为1.50并且具有式A-B的一元羧酸，其 中A是能够连接到纳米颗粒表面上的羧酸基团，并且B是具有 芳基的相容性基团；

ii)至少一种Mn至少为200g/摩尔、并且与所述可聚合树脂共聚 合的一元羧酸；

iii)至少一种二元羧酸。

10.根据权利要求9所述的光学制品，其中所述表面处理剂不含硅烷。

11.根据权利要求9所述的光学制品，其中所述光学制品为具有微结构 化表面的薄膜。

12.一种通过使无机纳米颗粒与表面处理剂结合来对该无机纳米颗粒进 行表面改性的方法，所述表面处理剂包含具有至少一个极性基团的 一元羧酸增容剂以及至少一种折射率至少为1.50并且具有式A-B 的一元羧酸，其中A是能够连接到纳米颗粒表面上的羧酸基团，并 且B是具有芳基的相容性基团。

13.权利要求12所述的方法，其中所述无机纳米颗粒选自：氧化锆、二 氧化钛、以及它们的混合物。

14.权利要求12所述的方法，其中所述表面处理剂还包含至少一种Mn 至少为200g/摩尔、并且具有烯键式不饱和基团的一元羧酸。

15.权利要求12或14所述的方法，其中所述表面处理剂还包含至少一 种二元羧酸。

16.一种包含表面处理剂的无机纳米颗粒，所述表面处理剂包含具有至少 一个极性基团的一元羧酸以及至少一种折射率至少为1.50并且具有 式A-B的一元羧酸，其中A是能够连接到纳米颗粒表面上的羧酸基 团，并且B是具有芳基的相容性基团。

17.权利要求16所述的无机纳米颗粒，该无机纳米颗粒选自：氧化锆、 二氧化钛、以及它们的混合物。

18.权利要求16所述的无机纳米颗粒，其中所述表面处理剂还包含至少 一种Mn至少为200g/摩尔、并且具有烯键式不饱和基团的一元羧 酸。

19.权利要求16或18所述的无机纳米颗粒，其中所述表面处理剂还包 含至少一种二元羧酸。