[发明专利]透光性电磁波屏蔽膜、制造透光性电磁波屏蔽膜的方法、显示面板用膜、显示面板用滤光器和等离子体显示面板有效
申请号: | 200680042066.0 | 申请日: | 2006-09-22 |
公开(公告)号: | CN101305648A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 佐佐木博友 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;B32B15/08;G09F9/00;H01J11/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 于辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透光 电磁波 屏蔽 制造 方法 显示 面板 滤光 等离子体 | ||
1.一种透光性电磁波屏蔽膜,包括:
透明基板;
含有银作为主要成分的印刷图案;和
至少一种防锈剂,
其中所述含有银作为主要成分的印刷图案包括:导电金属部;和透光性部分,和
其中,所述至少一种防锈剂选自具有N-H结构的5-元环唑化合物、有机巯基化合物或它们的组合,按构成所述印刷图案的金属总质量计,所述印刷图案的银含量为60质量%或更大。
2.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,其中所述印刷图案的银含量为85质量%或更大。
3.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,其中所述印刷图案含有银和除银之外的贵金属。
4.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,其中所述印刷图案含有银和钯、或银和金。
5.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,其中所述有机巯基化合物是式(2)所代表的化合物:
式(2)
Z-SM
其中Z代表烷基、芳香基团或杂环基团,它们被至少一种选自羟基、-SO3M2基团、-COOM2基团、氨基和铵基的基团所取代或被至少一种选自羟基、-SO3M2基团、-COOM2基团、氨基和铵基的基团取代的取代基所取代,其中M2代表氢原子、碱金属原子或铵基;以及
M代表氢原子、碱金属原子或脒基,其可任选地形成氢卤酸盐或磺酸盐。
6.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,其中所述有机巯基化合物是式(1)和(3)至(5)所代表的至少一种有机巯基化合物:
式(1):
其中,-D=和-E=每一个独立地代表-CH=基团、-C(R0)=基团或-N=基团;
R0代表取代基;以及
L1、L2和L3每一个独立地代表氢原子、卤素原子或通过碳原子、氮原子、氧原子、硫原子或磷原子与环连接的取代基,条件是L1、L2、L3和R0中的至少一个是-SM基团,其中M代表碱金属原子、氢原子或铵基。
式(3)和(4):
其中,R21和R22每一个独立地代表氢原子或烷基,条件是R21和R22不同时代表氢原子并且所述烷基可以具有取代基;
R23和R24每一个独立地代表氢原子或烷基;
R25代表羟基或羟基的盐、氨基、烷基或苯基;
R26和R27每一个独立地代表氢原子、烷基、酰基或-COOM22,条件是R26和R27不同时代表氢原子;
M21代表氢原子、碱金属原子或铵基;
M22代表氢原子、烷基、碱金属原子、芳基或芳烷基;
m代表0、1或2;以及
n代表2;
式(5):
其中,X40代表氢原子、羟基、低级烷基、低级烷氧基、卤素原子、羧基或磺酸基;
M41和Ma每一个独立地代表氢原子、碱金属原子或铵基。
7.如权利要求6所述的透光性电磁波屏蔽膜,其中所述有机巯基化合物由式(1)所代表。
8.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,相对于所述印刷图案而言,其包括量为0.001~0.04g/m2的至少一种防锈剂。
9.如权利要求1所述的透光性电磁波屏蔽膜,其还包括具有选自以下的一种或多种功能的功能性透明层:红外线屏蔽性能、硬涂层性能、抗反射性能、防眩性能、抗静电性能、防污性能、紫外线阻断性能、气体阻挡性能和显示面板破损防止性能。
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