[发明专利]多肽膜及方法有效

专利信息
申请号: 200680042346.1 申请日: 2006-11-13
公开(公告)号: CN101309670A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 唐纳德·坦普尔顿·海尼;郅政亮 申请(专利权)人: 路易斯安那科技大学研究基金会
主分类号: A61K9/16 分类号: A61K9/16;B05D1/20;G01N33/68;A61K9/28;A61K9/50
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人: 黄威
地址: 美国路易*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多肽 方法
【权利要求书】:

1.一种制膜方法,该方法包括:

将第一层聚电解质沉积到基底表面上,形成第一层;以及

将第二层聚电解质沉积到第一层聚电解质上,形成第二层;

其中,在高分子沉淀剂存在条件下,将第一层聚电解质或第二层聚电解质沉积到基底上,或者将这两层聚电解质都沉积到基底上;以及

第一层聚电解质和第二层聚电解质的净电荷极性相反;

其中,所述聚电解质是分子量大于1,000、每分子至少带5个电荷的聚阳离子或聚阴离子材料。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一层聚电解质或第二层聚电解质含有,或者这两层聚电解质都含有设计多肽,其中

所述设计多肽含有一个或多个第一氨基酸序列基元,所述一个或多个第一氨基酸序列基元由5-15个氨基酸残基组成,每个残基的净电荷数量大于或等于0.4;

所述设计多肽不是同聚多肽,有至少15个氨基酸残基长,每个残基的净电荷数量大于或等于0.4。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一层聚电解质或第二层聚电解质,或者这两层聚电解质在生物活性分子存在条件下被沉积。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基底含有生物活性分子。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述生物活性分子以基底表面的涂层形式存在。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述基底含有适于在聚电解质多层膜沉积完后发生崩解的模板。

7.根据权利要求4所述的方法,其中,所述生物活性分子以核的形式存在。

8.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:在沉积第一层聚电解质之前,将生物活性分子沉积到所述基底的表面上。

9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述高分子沉淀剂包含聚乙二醇、聚(丙烯酸)、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙二醇,或者前述一种或多种高分子沉淀剂的组合。

10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述膜是微胶囊形式。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,生物活性分子被所述微胶囊封装在内。

12.一种在聚电解质多层膜制备过程中改善生物活性分子留置的方法,该方法包括:

将第一层聚电解质沉积到基底表面上,形成第一层;以及

将第二层聚电解质沉积到第一层聚电解质上,形成第二层;

其中,在高分子沉淀剂存在条件下,将第一层聚电解质或第二层聚电解质沉积到基底上,或者将这两层聚电解质都沉积到基底上;

第一层聚电解质和第二层聚电解质的净电荷极性相反;以及

所述基底含有生物活性分子;

其中,所述聚电解质是分子量大于1,000、每分子至少带5个电荷的聚阳离子或聚阴离子材料。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述第一层聚电解质或第二层聚电解质含有,或者这两层聚电解质都含有设计多肽,其中

所述设计多肽含有一个或多个第一氨基酸序列基元,所述一个或多个第一氨基酸序列基元由5-15个氨基酸残基组成,每个残基的净电荷数量大于或等于0.4;

所述设计多肽不是同聚多肽,有至少15个氨基酸残基长,每个残基的净电荷数量大于或等于0.4。

14.根据权利要求12所述的方法,其中,在沉积第一层聚电解质之前,将生物活性分子沉积到所述基底的表面上。

15.根据权利要求12所述的方法,其中,所述生物活性分子以基底表面的涂层形式存在。

16.根据权利要求12所述的方法,其中,所述基底含有适于在聚电解质多层膜沉积完后发生崩解的模板。

17.根据权利要求12所述的方法,其中,所述生物活性分子以核的形式存在。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于路易斯安那科技大学研究基金会,未经路易斯安那科技大学研究基金会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680042346.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top