[发明专利]光学膜的处理方法、光学膜的处理装置及光学膜的制造方法无效
申请号: | 200680042859.2 | 申请日: | 2006-11-08 |
公开(公告)号: | CN101309955A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 森永义章;田中武志;中嶋孝治;小村崇信 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
主分类号: | C08J7/02 | 分类号: | C08J7/02;C08J7/04;B32B7/02;B32B23/08;B32B27/30;G02B1/10;G02B1/11 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 郑树槐;张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 处理 方法 装置 制造 | ||
1.光学膜的处理方法,该方法包括,用液体润湿连续输送的长膜,用弹性体连续地磨擦该长膜,然后除去该长膜表面的液体,其中,该弹性体表面的静磨擦系数为0.2~0.9。
2.权利要求1所述的光学膜的处理方法,其中,所述弹性体为表面改性橡胶。
3.权利要求1或2所述的光学膜的处理方法,其中,所述表面改性橡胶是对表面进行有机卤化合物处理得到的橡胶。
4.权利要求1~3中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,所述弹性体是旋转的橡胶辊。
5.权利要求1~4中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,所述橡胶辊与长膜的接触角度为1度以上而小于135度。
6.权利要求1~5中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,用所述弹性体磨擦所述长膜的时间为0.05秒~3秒。
7.权利要求1~6中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,用所述弹性体磨擦所述长膜时的面压为500N/m2~5000N/m2。
8.权利要求1所述的光学膜的处理方法,其中,具有除去附着在所述弹性体的表面上的液体的步骤。
9.权利要求1所述的光学膜的处理方法,其中,具有检测所述长膜的宽度端部位置、调整搬运位置的步骤。
10.权利要求1所述的光学膜的处理方法,其中,用所述弹性体磨擦所述长膜时,边向该长膜的背面送风边用所述弹性体连续地磨擦。
11.权利要求1所述的光学膜的处理方法,其中,通过向所述长膜的被处理面供给液体的装置润湿该被处理面。
12.权利要求11所述的光学膜的处理方法,其中,供给所述液体的装置为喷雾嘴。
13.权利要求12所述的光学膜的处理方法,其中,通过所述喷雾嘴供给的液体附着在所述长膜上时的液滴的平均液滴径为10μm~5000μm。
14.权利要求11~13中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,向所述长膜供给的液体的量为3g/m2~100g/m2。
15.权利要求11~14中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,所述液体的温度为30℃~100℃,所述弹性体的温度为30℃~100℃。
16.权利要求11~14中任意一项所述的光学膜的处理方法,其中,所述长膜为纤维素酯膜,所述液体为水。
17.光学膜的制造方法,该方法包括,用权利要求1~16中任意一项所述的光学膜的处理方法处理后,在所述长膜的被处理面上涂布设置光学功能层。
18.权利要求17所述的光学膜的制造方法,其中,所述光学功能层为硬涂层或防反射层。
19.权利要求17或18所述的光学膜的制造方法,其中,所述纤维素酯膜含有消光剂,所述硬涂层通过使用含有丙烯酸酯类紫外线固化树脂和有机溶剂的硬涂层涂布液涂布而形成,所述防反射层至少一层通过使用含有低表面张力物质和有机溶剂的防反射层涂布液涂布而形成。
20.光学膜的处理装置,该光学膜的处理装置包括:用液体润湿连续搬运的长膜的液体供给装置、用弹性体磨擦该长膜的弹性体磨擦装置、从该弹性体的表面除去液体的弹性体表面液体除去装置和磨擦后除去该长膜表面的液体的液体除去装置,其中,所述弹性体的表面的静磨擦系数为0.2~0.9。
21.权利要求20所述的光学膜的处理装置,其中,具有检测所述长膜的宽度端部位置、调整搬运位置的装置。
22.权利要求20所述的光学膜的处理装置,其中,具有将所述液体调整为30℃~100℃液温的液温调整装置。
23.权利要求20所述的光学膜的处理装置,其中,具有向所述长膜背面送风的装置。
24.权利要求20所述的光学膜的处理装置,其中,所述润湿膜的装置是向所述长膜的被处理面供给液体的装置。
25.权利要求20所述的光学膜的处理装置,其中,所述液体除去装置由空吸喷嘴和空气喷嘴形成。
26.权利要求20所述的光学膜的处理装置,其中,从所述液体供给装置到液体除去装置的处理时间为2秒~60秒。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达精密光学株式会社,未经柯尼卡美能达精密光学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680042859.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:铑配合物催化剂的稳定催化剂前体
- 下一篇:一种用非均相共热法生产氯化钡的方法