[发明专利]用于小装置的保护隔层有效

专利信息
申请号: 200680043195.1 申请日: 2006-09-13
公开(公告)号: CN101313128A 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 克里斯多夫·哈里森;奥利弗·C·穆林斯;奥利维尔·凡高文伯基;艾里克·P·冬塞尔;知见寺明人 申请(专利权)人: 普拉德研究及开发股份有限公司
主分类号: E21B47/10 分类号: E21B47/10;E21B47/01;E21B49/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王新华
地址: 英属维尔京*** 国省代码: 维尔京群岛;VG
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摘要:
搜索关键词: 用于 装置 保护 隔层
【权利要求书】:

1.一种井下流体分析系统,包括:

小装置,所述小装置适于井下使用,以测量与所述小装置接触的流动 流体的性能,其中,所述小装置为由基片材料微机械加工的集成装置;以 及

保护隔层,所述保护隔层用于针对流体保护所述小装置,其中所述保 护隔层包括在所述小装置上的两层或多于两层的涂层,且

所述保护隔层至少包括氧化钽的第一层以及氮化钛的第二层。

2.根据权利要求1所述的井下流体分析系统,其中

氧化钽层防止腐蚀,而氮化钛层防止侵蚀,且氮化钛层在氧化钽层上 方。

3.根据权利要求2所述的井下流体分析系统,其中

所述保护隔层进一步包括:

在氮化钛层上方的防粘附层。

4.根据权利要求1所述的井下流体分析系统,其中

所述保护隔层进一步包括:

作为小装置上的外层的防粘附层。

5.根据权利要求1所述的井下流体分析系统,进一步包括挡板装置, 所述挡板装置将载有微粒的流动偏转以远离所述小装置。

6.一种井下流体分析系统,包括:

小装置,所述小装置适于井下使用,以测量与所述小装置接触的流动 流体的性能,其中,所述小装置为由基片材料微机械加工的集成装置;以 及

保护隔层,所述保护隔层用于针对流体保护所述小装置,其中所述保 护隔层包括挡板装置,所述挡板装置将载有微粒的流动偏转以远离所述小 装置,且其中所述保护隔层进一步包括:

在所述小装置上用于防止所述小装置腐蚀的氧化钽层和在所述小装 置上用于防止所述小装置侵蚀的氮化钛层,且所述氮化钛层在所述氧化钽 层上方。

7.一种利用微机电系统装置感测井下流体的方法,所述微机电系统 装置具有弯曲板,所述方法包括如下步骤:

在适于在高温和高压条件下测量流体性质的井下的微机电系统装置 与井眼中的地下地层流体之间建立流体连通;

通过在所述微机电系统装置上溅射氧化钽的涂层,提供涂覆在井下的 所述微机电系统装置上的第一保护隔层,所述第一保护隔层用于防止井下 的所述微机电系统装置被地层流体腐蚀;

提供涂覆在井下的所述微机电系统装置上的第二保护隔层,用于防止 井下的所述微机电系统装置被地层流体侵蚀;以及

将地下地层流体环绕所述弯曲板,使得当弯曲板被驱动时,所述弯曲 板振动并使地下地层流体移动。

8.一种利用弯曲板微机电系统装置感测井下流体的方法,所述弯曲 板微机电系统装置具有平面件,所述平面件具有沿一侧连接到其上的弯曲 板,所述方法包括如下步骤:

在适于在高温和高压条件下测量流体性质的井下的微机电系统装置 与井眼中的地下地层流体之间建立流体连通;

提供涂覆在井下的所述微机电系统装置上的第一保护隔层,所述第一 保护隔层用于防止井下的所述微机电系统装置被地层流体腐蚀;

通过在所述微机电系统装置上等离子气相沉积氮化钛涂层,提供涂覆 在井下的所述微机电系统装置上的第二保护隔层,用于防止井下的所述微 机电系统装置被地层流体侵蚀;以及

将地下地层流体环绕所述弯曲板,使得当弯曲板被驱动时,所述弯曲 板振动并使地下地层流体移动。

9.一种适于感测井下流体的微机电系统装置,适于井下使用,用于 测量与所述微机电系统装置接触的流动流体的性质,所述微机电系统装置 制造在平面件上,其中:

在所述微机电系统装置上设置有用于防止所述微机电系统装置被井 下流体腐蚀的第一保护涂层以及用于防止所述微机电系统装置被井下流 体侵蚀的第二保护涂层中的至少一个涂层,所述第一保护涂层和所述第二 保护涂层中的所述至少一个涂层的涂层厚度在0.01微米到100微米的范围 之内,且所述涂层包括钛的氧化物、碳化物和氮化物中的至少一种。

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