[发明专利]硅锗氢化物以及制造和使用其的方法无效
| 申请号： | 200680043728.6 | 申请日： | 2006-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101365648A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | J·库韦塔基斯;C·J·里特三世;C·胡;I·S·T·宗;A·奇日梅什亚 | 申请（专利权）人： | 亚利桑那董事会;代表亚利桑那州立大学行事的法人团体 |
| 主分类号： | C01B6/06 | 分类号： | C01B6/06;H01L21/205;C07F7/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氢化物 以及 制造 使用 方法 | ||
1.包含式(SiHn1)x(GeHn2)y的硅锗氢化物的化合物，
其中x是2或3；
其中y是2或3；
其中x+y为4或5；
其中对于该化合物中的每个Si原子，n1独立地为0、1、2或3，以便满足化合价；并且
其中对于该化合物中的每个Ge原子，n2独立地为0、1、2或3，以便满足化合价。
2.权利要求1的化合物，其中
其中x是2或3；
条件是如果x为2且y为2，则下面的至少一项成立：
(i)对于至少一个Si原子，n1为0、1或2；
(ii)对于该化合物中的每个Ge原子，n2为2；和
(iii)对于该化合物中的至少一个Ge原子，n2为0或1。
3.权利要求1的化合物，
条件是如果x为2且y为2，则下面的至少一项成立：
(i)对于至少一个Si原子，n1为0、1或2；
(ii)对于该化合物中的每个Ge原子，n2为2；和
(iii)对于该化合物中的至少一个Ge原子，n2为0或1。
4.权利要求1-3任一项的化合物，其中x为2。
5.权利要求4的化合物，其中y为2。
6.权利要求1的化合物，其中该硅锗氢化物选自下组：
SiH3-SiH2-GeH2-GeH3；
SiH3-GeH2-SiH2-GeH3；
SiH3-GeH2-GeH2-SiH3；
GeH3-SiH2-SiH2-GeH3；
SiH[(SiH3)(GeH3)2]
GeH[(GeH3)(SiH3)2]
SiH3-SiH2-SiH2-GeH2-GeH3
SiH3-SiH2-GeH2-SiH2-GeH3
SiH3-GeH2-SiH2-SiH2-GeH3
GeH3-SiH2-SiH2-SiH2-GeH3
SiH3-SiH2-GeH2-GeH2-SiH3
SiH3-GeH2-SiH2-GeH2-SiH3
GeH[(SiH3)2(GeH2)](SiH3)
GeH[(SiH3)2(SiH2)](GeH3)
SiH[(GeH3)(SiH3)(GeH2)](SiH3)
SiH[(SiH3)(GeH3)(SiH2)](GeH3)
GeH[(GeH3)(SiH3)(SiH2)]SiH3
SiH[(GeH3)2(SiH2)]SiH3
Si[(SiH3)2(GeH3)2]
Ge[(SiH3)3(GeH3)]
SiH3-SiH2-GeH2-GeH2-GeH3
SiH3-GeH2-SiH2-GeH2-GeH3
GeH3-SiH2-SiH2-GeH2-GeH3
GeH3-SiH2-GeH2-SiH2-GeH3
SiH3-GeH2-GeH2-GeH2-SiH3
SiH3-GeH2-GeH2-SiH2-GeH3
GeH[(GeH3)(SiH3)(GeH2)](SiH3)
GeH[(SiH3)2(GeH2)](GeH3)
SiH[(SiH3)(GeH3)(GeH2)](GeH3)
GeH[(GeH3)(SiH3)(SiH2)](GeH3)
GeH[(GeH3)2(SiH2)](SiH3)
SiH[(GeH3)2(GeH2)](SiH3)
SiH[(GeH3)2(SiH2)](GeH3)
Si[(GeH3)3(SiH3)]；和
Ge[(GeH3)2(SiH3)2]。
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