[发明专利]磁记录介质用支持体和磁记录介质有效

专利信息
申请号: 200680043797.7 申请日: 2006-09-21
公开(公告)号: CN101313357A 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 堀江将人;佐藤诚;东大路卓司;中森由佳里;渡边宏聪 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: G11B5/73 分类号: G11B5/73;G11B5/78
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 段承恩;田欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质 支持
【说明书】:

技术领域

本发明涉及磁带等的磁记录介质所使用的支持体、和使用该支持体的具有磁性层的磁记录介质。

背景技术

双轴拉伸聚酯薄膜由于其优异的热特性、尺寸稳定性、机械特性和表面形态容易控制而被用于各种用途,特别是作为磁记录介质等的支持体的有用性已广为人知。近年,由于机械器材的轻量化、小型化、大容量化,磁带等的磁记录介质要求高密度化。为了高密度记录,缩短记录波长、减小记录磁道是有用的。但是,如果减小记录磁道,则存在由于磁带行走时的热和磁带保管时的温度和湿度的变化所导致的变形而容易引起记录磁道的移位的问题。因此,对于磁带的使用环境和保管环境下的尺寸稳定性这一特性的改善的要求越来越强烈。

从该观点来看,支持体有时使用在强度、尺寸稳定性方面比双轴拉伸聚酯薄膜优异的刚性高的芳香族聚酰胺。但是芳香族聚酰胺价格高,花费成本,作为通用记录介质的支持体并不现实。

另一方面,曾经开发了对于使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯薄膜,也使用拉伸技术来高强度化的磁记录介质用支持体。但是,尚难以满足针对温度、湿度的尺寸稳定性等的严格要求。

另外,曾经公开了为了提高相对于温度、湿度的尺寸稳定性,而在聚酯薄膜的一面或两面设置金属等的增强层的方法(专利文献1)。但是,在增强层为金属时,由于为金属键,因此导电性高,并具有反射光的性质。因此,虽然在涂布磁性层时的膜厚管理中使用了透射光,但是存在由于金属的增强膜的影响使光不能透过的问题。因此,膜厚管理变得困难,磁性层的膜厚会产生偏差,容易成为出错率多的磁带。另外,由于导电性高,因此由于静电、漏电流而使磁带中流通电流,由于该电流而导致有时磁头短路、发生故障。此外,金属与氧化物相比,强度弱,所以还存在抑制聚酯薄膜膨胀和收缩的效果小的问题。另一方面,增强层为氧化物、其他化合物时,由于是离子键,因此硬且脆,具有没有延性的性质。因此,由于张力而使之发生裂纹,或发生由弯曲所引起的裂纹。另外,由于氧化物具有吸湿性,因此针对湿度的尺寸稳定性的提高效果小,有时由于增强层本身的吸湿膨胀而使尺寸稳定性恶化。

因此,刻苦研究的结果发现:并不使金属完全氧化,而是通过控制增强层的氧化度,使得尺寸稳定性飞跃地提高,解决上述很多的课题。

再者,蒸镀控制氧化度的氧化金属层的技术曾经以气体阻挡性薄膜的形式公开(专利文献2)。但是,该文献中记载的薄膜是以气体阻挡为目的的包装材料用薄膜,并需有透明性,因此蒸镀膜厚薄至40nm以下,抑制聚酯薄膜膨胀和收缩的效果小。另外,为了控制氧化度、蒸镀50nm以上的氧化金属层,需要增加铝的蒸发量,与之相应地需要增加氧导入量。但是,在该文献所记载的方法中,由于使用图3所示的真空蒸镀装置,因此难以厚膜化。即,在该真空蒸镀装置111中,在真空室112的内部聚酯薄膜从放卷辊部113经过冷却鼓116向卷绕辊部118行走。此时,在采用由电子枪120照射的电子束121将坩锅123内的金属材料119加热使之蒸发的同时,一边由氧供给喷嘴124导入氧气,使蒸发的金属进行氧化反应,一边蒸镀到冷却鼓116上的聚酯薄膜上。但是,由于氧供给喷嘴124与冷却鼓116近,因此如果增加氧导入量,则由于该氧气的吹出流而使金属蒸气飞散,难以控制氧化度。另外,有时金属与氧反应的空间小,难以形成50nm以上的金属氧化物的蒸镀膜,所形成的蒸镀膜容易不稳定。并且,不稳定的蒸镀膜产生较多的结构缺陷,导致尺寸稳定性恶化。而且,由于这些气体阻挡性薄膜为包装材料用途,因此基膜的厚度厚,为10μm以上,另外表面不平滑,因此能够容易地蒸镀,与此相对,磁记录介质用支持体所使用的聚酯薄膜通常厚度薄,是平滑的,因此如果象这些方法那样不加以研究地进行蒸镀,则由于热所引起的变形等,会使蒸镀中较多地发生薄膜破裂。

专利文献1特开平7-272247号公报

专利文献2特开昭62-220330号公报

发明内容

本发明的目的在于,解决上述问题,提供一种尺寸稳定性优异、难以发生裂纹的磁记录介质用支持体。详细地讲,提供一种在形成磁记录介质时,能够制成由环境变化所引起的尺寸变化少、裂纹的发生和出错率也少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质的支持体。

用于解决上述课题的本发明是以下述(1)~(8)为特征的发明。

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