[发明专利]再循环烷烃浸渍液的装置及使用方法

权利要求书

1.一种装置，其包括：包含吸附剂段的洁净的闭环流体输送系统；过滤段；具有入口点的光成像段；为连接所述段而设置的管；为使流体经过所述管流入和流出所述段而设置的泵；用于将流体输入和移出所述光成像段的设备；和包含在该装置中的液态烷烃，其中在其光成像段入口点处，所述液态烷烃在193纳米处的吸光度小于0.40厘米^-1。

2.权利要求1的装置，进一步包括脱氧段。

3.权利要求1的装置，进一步包括脱气段。

4.权利要求1的装置，其中所述过滤段位于所述吸附剂段下游。

5.权利要求1的装置，进一步包括在线紫外分光光度计。

6.权利要求1的装置，其中液态烷烃选自环戊烷、环己烷、环庚烷、环辛烷、癸烷、十氢化萘外消旋物、顺式十氢化萘、反式十氢化萘外消旋物、外式四氢双环戊二烯、1，1’-双环己烷、2-乙基降冰片烷、正辛基环己烷、十二烷、十四烷、十六烷、2-甲基戊烷、3-甲基戊烷、2，2-二甲基丁烷、2，3-二甲基丁烷、八氢化茚及其混合物。

7.权利要求6的装置，其中液态烷烃选自2-甲基戊烷、3-甲基戊烷、2，3-二甲基丁烷、2，2-二甲基丁烷、癸烷、十二烷、十四烷、十六烷、环己烷、环庚烷、环辛烷、2-乙基降冰片烷、八氢化茚、双环己烷、十氢化萘、外式四氢双环戊二烯及其混合物。

8.权利要求7的装置，其中液态烷烃选自双环己烷、十氢化萘、外式四氢双环戊二烯及其混合物。

9.权利要求1的装置，其中所述液态烷烃在193纳米下的吸光度为＜0.22厘米^-1。

10.权利要求1的装置，其中所述液态烷烃在193纳米下的吸光度为＜0.15厘米^-1。

11.权利要求1的装置，其中吸附剂选自3A分子筛、4A分子筛、5A分子筛、13X分子筛、二氧化硅、中性氧化铝、碱性氧化铝、酸性氧化铝、活性炭及其组合。

12.权利要求11的装置，其中吸附剂是活化的。

13.权利要求1的装置，其中吸附剂段是色谱柱。

14.权利要求2的装置，其中脱氧段是膜式脱气器。

15.权利要求1的装置，其中光成像段是光刻系统。

16.权利要求15的装置，其中光刻系统包括包含光学元件的光学照明系统，设置成被所述光学照明系统依图像照射的光阻表面，在光学元件和光阻表面之间的间隙，和填充光学元件与所述光阻表面之间的间隙的所述液态烷烃。

17.权利要求16的装置，其中光学照明系统包括193纳米光源。

18.权利要求16的装置，其中光学照明系统包括多个光学元件。

19.权利要求1的装置，其中光成像段包括光学步进器。

20.进行液体浸渍光刻的方法，包括：

提供洁净的闭环流体输送系统，该系统包括吸附剂段、过滤段、光成像段、为连接所述段而设置的管、为使流体在该系统内流动而设置的泵、用于将流体输入和移出光成像段的设备；和从流体中吹出吸收的气体的设备；

将193纳米下吸光度＜0.40厘米^-1的液态烷烃引入光成像段；

将液态烷烃设置于光源和被光源依图像照射的表面之间；

使该液态烷烃从光成像段经管道流向吸附剂段；

任选通过从液态烷烃中吹出吸收的氧气来将液态烷烃脱氧；

使该液态烷烃与吸附剂接触，接触后的液态烷烃在所述接触后在193纳米下的吸光度＜0.40厘米^-1；

并使接触后的液态烷烃从吸附剂段流向所述光成像段。

21.权利要求20的方法，其中所述的用于吹洗吸收的气体的设备包括膜式脱气器。

22.权利要求20的方法，其中所述脱氧包括由惰性气体喷射所述烷烃。

23.权利要求20的方法，其中所述过滤段位于所述吸附剂段下游。

24.权利要求20的方法，其中所述流体输送系统进一步包括在线紫外分光光度计。