[发明专利]用于气体分离的功能化无机膜

权利要求书

1.一种多孔膜，其用于在高于200℃的温度以高于克努森扩散选择性的 选择性从包含二氧化碳和氢气的气流中分离二氧化碳，所述多孔膜包括：

多孔支撑层，其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆；

多孔分离层，其包括氧化铝、二氧化硅、氧化锆或稳定化的氧化锆， 其中所述多孔分离层设置在所述多孔支撑层的表面上；及

功能层，其包括可与所述气流接触以与氢气相比优先传输二氧化碳的 陶瓷氧化物，其中所述功能层设置在所述多孔分离层的孔的表面上。

2.根据权利要求1的多孔膜，其中所述多孔分离层设置在所述多孔支 撑层内并至少部分地填充所述多孔支撑层的孔。

3.根据权利要求1的多孔膜，其中所述功能层是多孔的，且设置在所 述多孔分离层内并至少部分地填充所述多孔分离层的孔。

4.根据权利要求1的多孔膜，其中所述多孔分离层设置在所述多孔支 撑层的表面上，以及所述功能层是多孔的且设置在所述多孔分离层内并至 少部分地填充所述多孔分离层的孔。

5.根据权利要求1的多孔膜，其中所述多孔分离层设置在所述多孔支 撑层内并至少部分地填充所述多孔支撑层的孔；以及所述功能层设置在所 述多孔分离层的孔的表面上。

6.根据权利要求1的多孔膜，其中所述功能层包括MgO、CaO、SrO、 BaO、La₂O₃、CeO₂、TiO₂、HfO₂、Y₂O₃、VO_z、NbO_z、TaO_z、ATiO₃、AZrO₃、 AAl₂O₄、A¹FeO₃、A¹MnO₃、A¹CoO₃、A¹NiO₃、A²HfO₃、A³CeO₃、Li₂ZrO₃、 Li₂SiO₃、Li₂TiO₃、Li₂HfO₃、A⁴N¹_yO_z、Y_xN¹_yO_z、La_xN¹_yO_z、HfN²_yO_z，

其中A为La、Mg、Ca、Sr或Ba；

A₁为La、Ca、Sr或Ba；

A₂为Ca、Sr或Ba；

A³为Sr或Ba；

A⁴为Mg、Ca、Sr、Ba、Ti或Zr；

N¹为V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Si或Ge；

N²为V、Mo、W或Si；

x为1或2；

y为1～3；及

z为2～7。