[发明专利]纳米尺度故障离析和测量系统有效
申请号: | 200680045028.0 | 申请日: | 2006-11-23 |
公开(公告)号: | CN101322037A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
发明(设计)人: | 戴维·P·瓦利特;西奥多·莱文;菲利普·卡斯祖巴 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | G01R31/28 | 分类号: | G01R31/28 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张波 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 尺度 故障 离析 测量 系统 | ||
1.一种从具有电特性的物体的预定区获取数据的系统,所述系统包括:
电连接至所述物体的所述预定区中多个不同导电结构的夹具,使得施加至所述夹具的电刺激偏置所述预定区;和
多探针组件,包括:
共同参考点;和
从所述共同参考点延伸的多个臂,各所述臂包括具有适于通过感测参数和施加能量源之一而评估所述物体的装置的探针,所述共同附着点和所述多个臂之一适于移动,以便允许各所述装置在所述预定区中的相同的固定位置评估所述物体;
与所述多探针组件通信的第一处理器;和
与所述第一处理器通信的第二处理器,其中所述第一处理器适于从各装置接收信号,从而处理所述信号,并且在处理之后传输所述信号至所述第二处理器,所述第二处理器适于根据来自各所述装置的信号形成所述预定区的多个图像,并且还包括设计所述预定区的数据并且适于精确地使得所述图像与所述设计数据精确地相关。
2.根据权利要求1的系统,其中所述探针包括多个装置,各所述装置适于通过感测参数和施加能量源之一而评估所述物体。
3.根据权利要求1或2的系统,其中所述多探针组件适于扫描所述预定区,以便允许各所述装置在多个所述相同固定位置评估所述物体。
4.根据权利要求1的系统,其中所述图像包括纳米尺度的高分辨率图像。
5.根据权利要求1的系统,还包括连接至所述第二处理器的显示屏,其中所述第二处理器还适于允许用户在所述显示屏上显示所述图像,重叠所述图像,并且分析所述图像,以便定位所述预定区中的故障和进行所述预定区的测量的至少之一。
6.根据权利要求1或2的系统,其中所述物体包括器件、材料、集成电路、管芯和芯片之一。
7.根据权利要求1或2的系统,其中所述不同的导电结构包括所述预定区中内部电路节点、内部电路器件、和内部电路材料的至少之一。
8.一种从具有电特性的预定区获取数据的方法,所述方法包括:
用夹具夹持所述物体,使得所述物体的所述预定区被暴露;
电连接所述预定区中多个不同的导电结构至所述夹具;
对所述夹具施加电刺激;
通过所述多个不同导电结构从所述夹具传导所述电刺激,以便电偏置所述预定区;并且
通过使用多探针组件从所述预定区内的相同的固定位置评估所述物体;
从各装置接收信号;
处理所述信号,以便根据所述信号提供所述预定区的多个图像;并且
对于所述预定区使得所述图像与设计数据相关,以便离析所述预定区内的故障。
9.根据权利要求8的方法,其中所述连接所述预定区中多个不同的导电结构至所述夹具包括:
形成夹具,所述夹具有具有升高的边缘的平面部、多个垂直延伸通过所述升高的边缘的第一导体、和位于所述升高的边缘的上表面上的多个第二导体,其中所述多个第二导体连接至所述多个第一导体;
放置所述物体至所述平面部上,使得所述物体的侧部邻接所述升高的边缘,并且
局部沉积多个分离第三导体于所述物体和所述升高的边缘上,使得至少两个所述第二导体电连接至至少两个所述多个不同的导电结构。
10.根据权利要求8的方法,其中所述物体的所述评估包括:
提供具有安装于共同附着点的多个臂的多探针组件,其中各所述臂从所述共同附着点延伸并且包括具有至少一装置的探针,并且其中各所述装置适于通过感测参数和施加能量源之一而评估所述物体;并且
旋转所述共同附着点和所述多个臂之一,以便允许各所述装置从所述预定区内的所述相同的固定位置评估所述物体。
11.根据权利要求8的方法,还包括扫描所述预定区,以便允许各所述装置在多个所述相同的固定位置评估所述物体。
12.根据权利要求8的方法,其中所述提供图像还包括提供纳米尺度的高分辨率图像。
13.根据权利要求8的方法,还包括在显示屏上显示所述图像、重叠所述图像、并且分析所述图像,以便识别所述预定区中的故障位置和在所述预定区内进行测量的至少之一。
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