[发明专利]用于建立离子束相对于晶圆的方位及修正角度误差的装置

权利要求书

1.一种帮助离子植入的装置，包括：

可操作地与终端站相关联的测量部件，该终端站被配置为相对于 离子束定位工件，使得行进在该离子束中的离子在选定位置撞击该工 件，在该位置处所述测量部件协助确定所述离子束以及所述工件之间 的相对方位，所述测量部件刚性附着于在植入期间所述工件存在于其 上的、所述终端站的部件，使得所述测量部件的表面或者与其垂直的 方向相对于所述工件的表面成已知角度。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述测量部件包括：

掩模，其中，被允许从所述掩模穿过的离子束的量依赖于所述掩 模与所述离子束之间的相对方位而变化；以及

放置在该掩模后面的离子敏感部分，从所述掩模穿过后离子束冲 击在所述离子敏感部分上。

3.如权利要求2所述的装置，其中所述掩模包括：

由相应槽分开的多个尖叉，其中，被允许从所述槽穿过的离子束 的量依赖于该尖叉与所述离子束之间的相对方位而变化。

4.如权利要求2所述的装置，其中所述离子束是水平带或是扫 描带状波束，其中该装置用来测量所述带的垂直弯曲角度。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于以下至少其中之一：

所述槽将所述尖叉分开在1毫米到10毫米之间，以及

所述尖叉具有5毫米到50毫米之间的长度。

6.如权利要求4所述的装置，其特征在于以下至少其中之一：

所述装置便于基于所述测量部件相对于所述工件的已知关系，将 所述工件相对于水平轴倾斜，以建立所述工件相对于垂直弯曲的带状 离子束的希望方位，

所述装置便于将所述工件绕着在其中心的与该工件表面垂直的 轴扭转，以另外建立所述工件相对于所述垂直弯曲的带状离子束的希 望方位，以及

所述装置便于基于所述测量部件相对于所述工件的已知关系，调 整该带状束的垂直弯曲角度，以建立所述工件相对于所述离子束的希 望方位。

7.如权利要求5所述的装置，其特征在于以下至少其中之一：

所述装置便于基于所述测量部件相对于所述工件的已知关系，将 所述工件相对于水平轴倾斜，以建立所述工件相对于所述垂直弯曲的 带状离子束的希望方位，

所述装置便于将所述工件绕着在其中心的与该工件表面垂直的 轴扭转，以另外建立所述工件相对于所述垂直弯曲的带状离子束的希 望方位，以及

所述装置便于基于所述测量部件相对于所述工件的已知关系，调 整所述带状束的垂直弯曲角度，以建立所述工件相对于所述离子束的 希望方位。

8.一种离子植入系统，包括：

用来产生离子的离子源；

用来从所述离子中产生离子束并且沿着行进路径导引所述离子 的束线组件，所述离子由所述离子源产生；

用来将工件相对于所述行进路径定位的终端站，使得在所述离子 束中行进的离子在选定位置上撞击所述工件；以及

测量部件，其刚性附着于在植入期间所述工件存在于其上的、所 述终端站的部件，使得所述测量部件的表面或者与其垂直的方向相对 于所述工件的表面成已知角度，其中，当所述终端站部件移动时所述 离子束冲击在所述测量部件上。

9.如权利要求8所述的系统，其中所述测量部件测量在其上冲击 的离子束强度作为所述离子束相对于所述测量部件的方位的函数，使 得所述测量部件与所述离子束之间的特定方位能够通过相对于所述 离子束移动所述测量部件而建立。

10.如权利要求9所述的系统，其中所述测量部件以相对于所述 工件的已知关系定向，使得由此可以建立所述工件及离子束之间的相 对方位。

11.如权利要求10所述的系统，其中所述测量部件是固定地与终 端站的部件相关联，其中所述工件与该终端站是可操作地相关联。