[发明专利]具有改进的耐化学品性的可成像元件

权利要求书

1.一种可成像的元件，其含有基材和位于基材上的可成像层，所述元件进一步含有辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物，所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基，前提是金刚烷基侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。

2.权利要求1的元件，其中所述耐溶剂聚合物由以下结构(I)表示：

-(A)_x-(B)_y-

(I)

其中A和B一起表示聚合物主链，其中A还包含含有磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基的重复单元，B还含有不同的重复单元，x表示5-100重量％，y表示0-95重量％，前提是如果A含有金刚烷基侧基，则这些基团经由脲或氨酯连接基与聚合物主链连接。

3.权利要求2的元件，其中B表示衍生自以下物质的重复单元：苯乙烯类单体、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、马来酸酐、N-取代的马来酰亚胺或它们的混合物。

4.权利要求2的元件，其中当A表示含有磷酸侧基的重复单元时，x是5-20重量％；当A表示含有金刚烷基侧基的重复单元时，x是5-40重量％；

5.权利要求1的元件，其中所述辐射吸收性化合物是红外辐射吸收性染料，能吸收波长为700-1200nm的辐射。

6.权利要求1的元件，其中所述辐射吸收性化合物的存在量是0.5-20重量％，基于包含该化合物的层的总干重计。

7.权利要求1的元件，其中所述基材是经过处理或涂布的铝基材。

8.权利要求1的元件，其是正性工作的石印板前体。

9.权利要求1的元件，其是负性工作的可成像元件，其中所述可成像层含有所述耐溶剂聚合物、所述作为IR吸收性化合物的辐射吸收性化合物、可自由基聚合物的化合物以及能产生自由基的组合物。

10.权利要求9的元件，其中所述能产生自由基的组合物是可自由基聚合的不饱和单体或低聚物，或可自由基交联的聚合物，并且所述能产生自由基的组合物包括：(a)三嗪，(b)吖嗪鎓化合物，(c)多卤代的能产生自由基的化合物，(d)被多卤代烷基取代的能产生自由基的化合物和被羧基取代的碳芳族化合物的混合物，(e)吖嗪鎓化合物和被羧基取代的碳芳族化合物的混合物，(f)过氧化苯甲酰、氢过氧化物或偶氮化合物，(g)二芳基碘鎓盐和光敏剂，(h)硼酸盐和有机硼酸盐，(i)鎓盐，或它们的混合物。

11.权利要求1的元件，其中所述耐溶剂聚合物具有从一种或多种由以下结构A1-A5表示的化合物衍生的重复单元：

其中X是氧基、硫基或-NH-，X’是-NH-或氧基，X”是氧基或-NH-，n是1-6，

12.权利要求1的元件，其中所述可成像层是唯一的可成像层，且含有在所述基材上的所述辐射吸收性化合物和所述耐溶剂聚合物。

13.权利要求12的元件，其中所述耐溶剂聚合物由以下结构(II)表示：

其中R表示氢、低级烷基或卤素基团，

L表示直接键或连接基，

R’表示磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基，前提是当R’是金刚烷基侧基时，L包括脲或氨酯连接基，

B表示不同的重复单元，

当R’表示磷酸侧基时，x是5-20重量％，y是80-95重量％；和

当R’表示金刚烷基侧基时，x是5-40重量％，y是60-95重量％。

14.权利要求13的元件，其中L表示包含至少一个-C(O)-O-、-NH-CO-NH-、-C(O)-O-(CH₂)₂-或-NH-CO-O-基团的连接基。

15.权利要求13的元件，其中B表示衍生自以下物质的重复单元：苯乙烯类单体、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、马来酸酐、N-取代的马来酰亚胺或它们的混合物。

16.权利要求9的元件，其中对于所述单层可成像层，涂料重量是0.5-2.5g/m²。