[发明专利]口腔护理组合物、方法、装置及系统

权利要求书

1.一种口腔护理方法，所述方法包括：

(a)将第一组合物从分配口腔护理装置递送到使用者的口腔的第一口腔护理期；和

(b)在所述第一口腔护理期后，将第二组合物从所述口腔护理装置递送到使用者的口腔的第二口腔护理期。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述口腔护理装置包括电动牙刷，并且所述方法还包括在递送每种组合物期间用所述电动牙刷的活动头部部分接触牙齿。

3.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括监测被递送的组合物中的至少一种的总体积，并在随后的口腔护理期内利用该信息来确定是否递送附加剂量的所述组合物。

4.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在所述第二口腔护理期内除了递送所述第二组合物之外还递送所述第一组合物。

5.如权利要求1所述的方法，其中按计量的预定剂量递送所述组合物中的至少一种。

6.一种口腔护理系统，所述系统包括

手柄；

从所述手柄延伸的颈杆；

头部，所述头部具有承载多个清洁元件并限定流体从所述头部递送的出口的上部；

被构造成将两种或更多种组分递送到所述出口的流体通道；

被构造成将所述组分从来源泵送经过所述通道到所述出口的递送装置；和

被构造成控制所述递送装置的运行的控制器。

7.如权利要求6所述的口腔护理系统，其中所述递送装置包括两个或更多个泵。

8.如权利要求6所述的口腔护理系统，其中所述控制器被构造成独立地控制所述各个泵的运行。

9.如权利要求6所述的口腔护理系统，其中所述控制器包括时钟功能。

10.如权利要求6所述的口腔护理系统，其中所述控制器被构造成进行编程来提供计数功能。

11.如权利要求6所述的口腔护理系统，其中所述控制器包括微处理器。

12.一种口腔护理系统，所述系统包括：

两种组分，其中第一组分包括铜离子或其前体，并且第二组分包括亚氯酸根离子或其前体，和

其中构造所述第一组分和所述第二组分在两个单独的容器中。

13.如权利要求12所述的口腔护理系统，其中所述两个单独的容器均在单个口腔护理装置中。

14.如权利要求12所述的口腔护理系统，其中所述第一组分基本上不含亚氯酸根离子或其前体。

15.如权利要求12所述的口腔护理系统，其中所述第二组分基本上不含铜离子或其前体。

16.如权利要求12所述的口腔护理系统，其中所述第二组分相对于铜离子或其前体具有摩尔过量的亚氯酸根离子或其前体。

17.一种施用口腔护理组合物的方法，所述方法包括：

施用包括铜离子或其前体的第一组分；

施用包括亚氯酸根离子或其前体的第二组分；和

其中所述第一和第二组分在使用者的口中结合形成组合物或在即将被施用到使用者的口中之前结合。

18.如权利要求17所述的方法，其中所述第一和第二组分被同时施用。

19.一种口腔护理方法，所述方法包括：

口腔护理装置，所述装置包括：

第一隔室和存储在所述第一隔室内部的第一组分，其中所述第一组分包括亚锡盐；

第二隔室和存储在所述第二隔室内部的第二组分，其中所述第二组分包括过氧化物源；和在分配所述第一组分后分配所述第二组分。

20.如权利要求19所述的口腔护理方法，其中所述口腔护理装置还包括与所述第一隔室流体连通的第一出口和与所述第二隔室流体连通的第二出口。

21.如权利要求20所述的口腔护理方法，其中所述口腔护理装置还包括与所述第一出口相关连的第一泵和与所述第二出口相关连的第二泵，其中所述第一泵用来泵送所述第一组分，并且所述第二泵用来泵送所述第二组分。