[发明专利]磨粒材料和用该磨粒材料对工件平面化的方法

权利要求书

1.一种磨粒材料，包含：

氧化铝颗粒，所述氧化铝颗粒包含过渡型氧化铝和至少5.0重量％的非晶 相，所述氧化铝颗粒包括不小于20重量％的γ相氧化铝，所述氧化铝颗粒的密 度不大于3.00g/cm³。

2.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述过渡型氧化铝包含γ 相氧化铝和δ相氧化铝中的至少一种。

3.如权利要求2所述的磨粒材料，其特征在于，所述过渡型氧化铝包含δ 相氧化铝。

4.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述过渡型氧化铝包含θ 相氧化铝。

5.如权利要求4所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒包含不 小于5重量％的θ相氧化铝。

6.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒包含不 小于10重量％的非晶相。

7.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒包含不 小于5.0重量％的非晶相和不大于40重量％的非晶相，余量的颗粒主要由过渡 型氧化铝组成。

8.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒的比表 面积不小于100m²/g。

9.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒是小片 形，其初级长宽比不小于3∶1，次级长宽比不小于3∶1。

10.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒为针形， 其初级长宽比不小于3∶1，次级长宽比不大于3∶1。

11.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒的平均 初级粒度不大于85纳米。

12.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述氧化铝颗粒的平均 次级粒度不大于200纳米。

13.如权利要求12所述的磨粒材料，其特征在于，所述平均次级粒度不 大于150纳米。

14.如权利要求1所述的磨粒材料，其特征在于，所述磨粒材料包括浆料。

15.如权利要求14所述的磨粒材料，其特征在于，所述浆料的胶体稳定 性按照沉降高度测定，3天后沉降高度为0.0毫米。

16.如权利要求15所述的磨粒材料，其特征在于，所述浆料的胶体稳定 性按照沉降高度测定，6天后沉降高度为0.0毫米。

17.一种形成磨粒材料的方法，该方法包括：

提供主要包含过渡型氧化铝的原料颗粒；

对原料颗粒进行碾磨，形成包含过渡型氧化铝和不小于5.0重量％的非晶 相的氧化铝颗粒，所述氧化铝颗粒包括不小于20重量％的γ相氧化铝，该氧 化铝颗粒的密度不大于3.00g/cm³。

18.如权利要求17所述的方法，其特征在于，所述碾磨步骤包括在pH小 于5.0的酸性溶液中进行湿碾磨。

19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述湿碾磨包括对过渡型 氧化铝颗粒进行碾磨至平均次级粒度不大于200纳米。

20.如权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括对含铝材 料进行煅烧，提供原料颗粒，其中所述对含铝材料进行煅烧的步骤包括加热含 铝材料加热至一定温度，该温度足以使含铝材料转化为主要包含过渡型氧化铝 的原料颗粒。

21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，所述煅烧步骤在不大于1250 ℃的温度进行。

22.如权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：对氧化 铝颗粒进行干燥，形成干氧化铝粉；将干氧化铝粉分散在溶剂中，形成磨料浆。

23.一种对工件的导电金属表面进行抛光的方法，该方法包括：

在工件和用于抛光的压板之间提供磨料浆，所述磨料浆包含溶剂和氧化铝 颗粒，所述氧化铝颗粒包含过渡型氧化铝和不小于5重量％的非晶相，所述氧 化铝颗粒包括不小于20重量％的γ相氧化铝，其中氧化铝颗粒的密度不大于 3.00g/cm³；

使压板和工件做相对平移。