[发明专利]金属相容的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射涂层去除组合物无效
申请号: | 200680046497.4 | 申请日: | 2006-10-12 |
公开(公告)号: | CN101421386A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 梅利莎·K·拉斯;大卫·D·伯恩哈德;托马斯·H·包姆;江平;周仁杰;迈克尔·B·克赞斯基 | 申请(专利权)人: | 高级技术材料公司 |
主分类号: | C11D7/50 | 分类号: | C11D7/50 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王海川;樊卫民 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 相容 光致抗蚀剂 牺牲 反射 涂层 去除 组合 | ||
1.一种液体去除组合物,所述去除组合物包括:
至少一种有机季碱,
至少一种表面相互作用增强添加剂,和
任选至少一种选自下列的组分:至少一种碱金属或碱土金属源;至少一种有机溶剂;至少一种表面活性剂;至少一种螯合剂;及其组合,
其中所述至少一种表面相互作用增强添加剂包括选自下列的物质:聚(丙烯酰胺-共-二烯丙基二甲基氯化铵)、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸、聚二烯丙基二甲基氯化铵、二烯丙基二甲基氯化铵、丙烯酰胺、乙酰胍胺及其组合,且
其中所述液体去除组合物用于从其上具有光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射涂层材料的微电子器件上去除所述材料。
2.权利要求1的液体去除组合物,其中所述至少一种有机季碱包括具有式NR1R2R3R4OH的化合物,其中R1、R2、R3和R4可以彼此相同或不同,并且选自氢、C1-C6直链烷基、C1-C6支链烷基、取代的C6-C10芳基、和未取代的C6-C10芳基。
3.权利要求1的液体去除组合物,其中所述至少一种有机季碱包括选自下列的化合物:四丁基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵及其组合。
4.权利要求1的液体去除组合物,其中所述至少一种有机季碱包括苄基三甲基氢氧化铵。
5.权利要求1的液体去除组合物,包括碱金属或碱土金属源,其中所述至少一种碱金属或碱土金属源包括选自下列的钾盐:氢氧化钾、氯化钾及其组合。
6.权利要求1的液体去除组合物,包括有机溶剂,其中所述至少一种有机溶剂包括选自下列的组分:胺、含硫化合物、二醇、二醇醚及其组合。
7.权利要求6的液体去除组合物,其中所述有机溶剂包括选自下列的化合物:一乙醇胺、三乙醇胺、三亚乙基二胺、甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、五甲基二亚乙基三胺、二甲基二甘醇胺、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳烯、氨基丙基吗啉、羟乙基吗啉、氨基乙基吗啉、羟丙基吗啉、二甘醇胺、N-甲基吡咯烷酮、N-辛基吡咯烷酮、N-苯基吡咯烷酮、环己基吡咯烷酮、乙烯基吡咯烷酮、四甲基砜、乙二醇、丙二醇、新戊二醇、二乙二醇一甲醚、三乙二醇一甲醚、二乙二醇一乙醚、三乙二醇一乙醚、乙二醇一丙醚、乙二醇一丁醚、二乙二醇一丁醚、三乙二醇一丁醚、乙二醇一己醚、二乙二醇一己醚、乙二醇苯醚、丙二醇甲醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、丙二醇正丙醚、二丙二醇正丙醚、三丙二醇正丙醚、丙二醇正丁醚、二丙二醇正丁醚、三丙二醇正丁醚、丙二醇苯醚及其组合。
8.权利要求1的液体去除组合物,包括螯合剂,其中所述至少一种螯合剂包括选自下列的物质:苯并三唑、甲苯基三唑、5-苯基-苯并三唑、5-硝基-苯并三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑、1-氨基-1,2,4-三唑、羟基苯并三唑、2-(5-氨基-戊基)-苯并三唑、1-氨基-1,2,3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、3-巯基-1,2,4-三唑、3-异丙基-1,2,4-三唑、5-苯基硫醇-苯并三唑、卤代苯并三唑、萘并三唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、4-甲基-2-苯基咪唑、2-巯基噻唑啉、5-氨基四唑、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、2,4-二氨基-6-甲基-1,3,5-三嗪、噻唑、三嗪、甲基四唑、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,5-五亚甲基四唑、1-苯基-5-巯基四唑、二氨基甲基三嗪、巯基苯并噻唑、咪唑啉硫酮、巯基苯并咪唑、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、苯并噻唑、磷酸三甲苯酯、苯并异二唑、鸟嘌呤、脲、腺嘌呤、甘油、硫代甘油、次氮基三乙酸、水杨酰胺、苯并胍胺、三聚氰胺、硫氰尿酸、邻氨基苯甲酸、没食子酸、抗坏血酸、水杨酸、8-羟基喹啉、5-羧酸-苯并三唑、3-巯基丙醇、硼酸和亚氨基二乙酸。
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