[发明专利]使用参考传感器的组件阵列的用于金属伪影的补偿的电磁跟踪方法和装置

权利要求书

1.一种用于金属伪影的补偿的电磁跟踪方法，其包括：

提供电磁场生成器(12)用于在感兴趣的区域(16)中生成电磁场(14)，其中，响应所述电磁场和所述感兴趣的区域附近金属伪影的出现，所述电磁场受到扭曲；

提供置于所述感兴趣的区域附近的参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)，所述参考传感器的阵列具有预定的已知配置；

经由所述电磁场响应一个或多个所述参考传感器的激发来相对于所述电磁场生成器确定所述参考传感器的阵列的第一组位置；

使用不同于所述电磁场的第二机构(28)，相对于所述第二机构确定所述参考传感器的阵列的至少一个或多个参考传感器的第二组位置的第一部分，所述第二机构与所述电磁场生成器成已知的空间关系；

响应使用所述第二机构确定的所述第二组位置的所述第一部分和所述参考传感器的阵列的所述预定已知的配置来确定所述参考传感器的阵列的所述参考传感器的所述第二组位置的其余部分；以及

作为所述参考传感器的阵列的所述第一和第二组位置的函数补偿所述感兴趣的区域中的所述电磁场的金属扭曲。

2.一种用于金属伪影的补偿的电磁跟踪系统(10)，其包括：

电磁场生成器(12)用于在感兴趣的区域(16)中生成电磁场(14)，其中，响应所述电磁场和所述感兴趣的区域附近金属伪影的出现，所述电磁场受到扭曲；

置于所述感兴趣的区域附近的至少一个参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)，所述至少一个参考传感器的阵列具有预定的已知配置；

系统控制器(18)，用于经由所述电磁场响应一个或多个所述参考传感器的激发来相对于所述电磁场生成器确定所述参考传感器的阵列的第一组位置；以及

不同于所述电磁场生成器的第二机构(28)，用于相对于所述第二机构确定所述参考传感器的阵列的至少一个或多个参考传感器的第二组位置的第一部分，所述第二机构与所述电磁场生成器成已知的空间关系，

其中，所述系统控制器还用于响应使用所述第二机构确定的所述第二组位置的所述第一部分和所述参考传感器的阵列的所述预定已知的配置来确定所述参考传感器的阵列的所述参考传感器的所述第二组位置的其余部分；以及用于作为所述参考传感器的阵列的所述第一和第二组位置的函数补偿所述感兴趣的区域中的所述电磁场的金属扭曲。

3.如权利要求2所述的系统，其中，所述第二机构(28)还配置为用于确定所述第二机构和所述电磁场生成器之间的所述空间关系。

4.如权利要求3所述的系统，其中，所述第二机构(28)包括光学跟踪系统。

5.如权利要求2所述的系统，此外，其中所述系统控制器(18)还用于作为金属扭曲补偿的电磁场的函数来确定所述感兴趣的区域内要跟踪的传感器(20)的位置。

6.如权利要求2所述的系统，其中，所述参考传感器的阵列(30、50、102、104、110)包括一个或多个组件阵列，每个组件阵列具有预定的配置或形状和一个或多个参考传感器。

7.如权利要求6所述的系统，其中，所述组件阵列(30、102、104)包括具有半圆柱形状的阵列，所述半圆柱形状的阵列配置为与在患者的腹部或胸腔中的一个或多个的周围进行的介入一起使用。

8.如权利要求6所述的系统，其中，所述组件阵列(50)包括基本平的面板阵列，所述平的面板阵列在预定的配置中包括一个或多个参考传感器，所述平的面板阵列还配置为放置在患者下面。

9.如权利要求6所述的系统，其中，所述组件阵列(110)包括具有笼子形状的阵列，所述具有笼子形状的阵列配置为用于患者周边肢体中的介入。

10.如权利要求6所述的系统，其中，所述组件阵列(60)还包括预制造的传感器阵列的一个或多个组件部分，所述组件部分还具有至少两个对准机构(48、49、128、129)，所述对准机构用于建立所述组件部分一起的预定的放置。

11.如权利要求10所述的系统，此外，其中所述至少两个对准机构包括互锁机构，所述互锁机构用于在预定的布置中将两个或多个组件阵列锁定在一起，并且此外，用于使得能够相对于所述电磁场生成器的安置执行所述参考传感器的阵列的位置的对准。