[发明专利]具有包含非氟化交联剂的含氟弹性体抗反射涂层的复合结构无效
申请号: | 200680047279.2 | 申请日: | 2006-12-05 |
公开(公告)号: | CN101331409A | 公开(公告)日: | 2008-12-24 |
发明(设计)人: | P·G·贝基亚里安;M·佩特鲁奇-萨米亚;J·F·赖利 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;C09D5/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 林毅斌;韦欣华 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 包含 氟化 交联剂 弹性体 反射 涂层 复合 结构 | ||
发明背景
1.发明领域
本发明涉及用于减少光学制品如显示器、光学透镜、窗户、偏 光器和透明膜表面反射的抗反射涂料领域。更具体地讲,本发明涉及 包含含有非氟化交联剂的含氟弹性体的抗反射涂层,其中所述涂层具 有较低折射率和良好粘附性能。
2.相关技术描述
光学材料的特点在于其折射率。每当光从一种材料传播到折射 率不同的另一材料,一些光会被反射。通过在光学制品表面上提供一 定厚度的抗反射涂层可显著减少不需要的反射。就折射率为n的光学 制品而言,为了达到最大效力,涂层的光学厚度(物理厚度乘以其本身 折射率)应为入射光波长的约四分之一而其折射率为n的平方根。大多 数光学制品的折射率为1.4-1.6。
已知用于抗反射膜的低反射率聚合物层可衍生自含氟聚合物。 氟化聚合物涂层的折射率可取决于层内所含氟的体积百分比。层中氟 含量的提高通常会降低涂层的折射率。因此,长期以来均致力于提高 抗反射涂层中的含氟聚合物含量。参见3M的美国专利申请公开 2005/0182199,所述申请公开描述了含有氟代烷基的多烯键的交联剂。
然而,含氟聚合物与常用基底如塑料和玻璃的粘附非常差。已 进行各种改性来改善其与基底的粘附性。例如,转让给3M的美国专 利申请2003/0068486公开了包括氟化材料层的抗反射涂层,所述涂层 赋予抗反射性能,并共价附着到硬质涂层表面。
但是,仍需要较低折射率的抗反射涂层,所述抗反射涂层具有 良好粘附性及良好抗刮痕性。
发明简述
本发明通过包含非氟化交联剂的抗反射含氟弹性体涂层克服了 现有技术所存在的问题。该抗反射涂层具有良好粘附性能、耐用且抗 刮痕。
出乎意料的是:在弹性体抗反射涂层中使用非氟化交联剂可提 供低折射率及抗刮痕性。此外,本发明抗反射涂层的含氟弹性体具有 可溶于有机溶剂的优点。这些优点使本发明特别可用于提供抗反射涂 层。
因此,本发明提供包括基底和施加到所述基底的抗反射涂层的 复合结构。一种复合结构,所述复合结构包括基底和施加到所述基底 的抗反射涂层,其中所述抗反射涂层包括:A)具有选自如下的固化部 位的含氟弹性体:溴原子、氯原子、碘原子、非共轭二烯烃和其中两 种或多种的混合物;和B)非氟化多烯键交联剂。
还出乎意料的是含氟弹性体涂层可获得良好的粘附作用。本发 明通过使用活性离子蚀刻法提高含氟弹性体的粘附作用,所述反应离 子蚀刻法在所述基底上形成微结构表面。该方法包括以下步骤:(a)用 第一气体轰击所述表面和(b)用第二气体蚀刻以形成该微结构表面。优 选所述第一气体为氩气,第二气体为氧气,氧气可化学蚀刻所述表面。 所述表面优选用这些气体同时轰击,得到密集、刷状不平表面。
详述
适合用作本发明抗反射涂层的含氟弹性体包括包含一种或多种 含氟单体及其它不含氟单体的共聚单元的含氟弹性体,所述含氟单体 如偏二氟乙烯、六氟丙烯、1-氢五氟丙烯、2-氢五氟丙烯、四氟乙烯、 氯三氟乙烯和全氟(烷基乙烯基醚),所述不含氟单体如乙烯和丙烯。 这类弹性体已在Logothetis的Chemistry of Fluorocarbon Elastomers(氟碳弹性体化学),Prog.Polym.Sci.(聚合物科学进展),14卷,251-296 (1989)中描述。所述聚合物可通过自由基引发剂引发,由合适单体混 合物经本体聚合、惰性溶剂的溶液聚合、含水乳液聚合或含水悬浮液 聚合制备。所述聚合可以连续、分批或半分批法进行。通常的制备法 已在Logothetis的文章和以下美国专利中公开:4,281,092、3,682,872、 4,035,565、5,824,755、5,789,509、3,051,677和2,968,649。
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