[发明专利]光化学传感器及其制造方法

权利要求书

1.一种制造光化学传感器的方法，所述方法包括：

提供具有主表面的反射基板；

将包括至少一种本质上微孔的聚合物的检测层固定到所述主表面 的至少一部分上；

在所述检测层的至少一部分上沉积基本上连续的半反射金属层， 所述半反射金属层包括钯并且其中具有不规则细缝的网；以及

在分子氧存在下，在足以使所述缝变宽的温度下加热至少所述检 测层和半反射金属层。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括使所述至少一种本质上 微孔的聚合物形成从所述检测层穿过所述半反射金属层延伸的突起。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：

使所述光化学传感器接触有机蒸汽；和

观察所述光化学传感器接触时的响应。

4.据权利要求3所述的方法，还包括：

计算或估算所述有机蒸汽的浓度。

5.根据权利要求4所述的方法，其中观察响应包括反射光谱法。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述检测层包括至少一种 具有二苯并二噁烷键的聚合物。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述检测层具有150纳米 至1200纳米的厚度。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述半反射金属层具有3 纳米至10纳米的厚度。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述半反射金属层还包括 另外的金属或半金属。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述反射基板包括其上具 有反射层的基底，所述反射层包括反射表面。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述基底是可渗透的。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述基底选自由下列材 料组成的组：织造材料、非织造材料、网和过滤膜。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一种本质上微孔 的聚合物通过气体吸附法测定的孔总体积为至少0.1毫升/克，并且其 中所述孔总体积的至少25％源自于平均直径为0.3至20纳米的 孔。

14.一种光化学传感器，包括：

具有主表面的反射基板；

置于所述反射基板所述主表面至少一部分上的检测层，所述检测 层包括至少一种本质上微孔的聚合物；和

置于所述检测层至少一部分上的基本上连续的半反射金属层，其 中所述半反射金属层包括钯，其中所述半反射金属层其中具有不规则 细缝的网，并且其中存在多个从所述检测层穿过所述半反射金属层延 伸的突起。

15.根据权利要求14所述的传感器，其中所述反射基板包括其 上具有反射层的基底，所述反射层包括反射表面，并且其中将所述检 测层固定到所述反射层的至少一部分上。

16.根据权利要求15所述的传感器，其中所述基底是可渗透的。

17.根据权利要求16所述的传感器，其中所述基底选自由下列 材料组成的组：织造材料、非织造材料、网和过滤膜。

18.根据权利要求14所述的传感器，其中所述半反射金属层具 有5纳米至10纳米的厚度。

19.根据权利要求14所述的传感器，其中所述检测层包括至少 一种具有二苯并二噁烷键的聚合物。

20.根据权利要求14所述的传感器，其中所述检测层具有150 纳米至1200纳米的厚度。

21.根据权利要求14所述的传感器，其中所述至少一种本质上 微孔的聚合物通过气体吸附法测定的孔总体积为至少0.1毫升/克，并 且其中所述孔总体积的至少25％源自于平均直径为0.3至20纳米 的孔。