[发明专利]控制井眼内的压力和静电荷

权利要求书

1.在约束体积内控制压力和降低静电荷聚集的方法，包括：

a)提供在体积内容纳第一流体的体积，该第一流体具有第一压力 和第一温度；

b)用第二流体替换在该体积内的至少一部分第一流体，该第二流 体包含(i)至少一种可聚合单体和(ii)至少一种抗静电剂；

c)将该体积密封以产生约束体积；和

d)将在该约束体积内的流体加热，以使该流体处于第二压力和第 二温度，

其中该可聚合单体在该第一温度和第二温度之间的温度下聚合， 和

其中该可聚合单体的聚合伴随着该约束体积内的压力降低以使该 第二压力低于当该约束体积仅含第一流体时在第二温度下的压力。

2.根据权利要求1的方法，其中该体积是环形体积。

3.根据权利要求1的方法，其中该环形体积通过井眼内的两个同心 套管柱描述。

4.根据权利要求1的方法，其中该第一温度在0°F-100°F的范围。

5.根据权利要求1的方法，其中该第二温度在50°F-300°F的范围。

6.根据权利要求5的方法，其中该第二温度在125°F-250°F的范围。

7.根据权利要求1的方法，其中在步骤(c)的约束体积内的流体 处于第一压力和第一温度。

8.根据权利要求1的方法，其中该第一压力是步骤(a)的体积内 的第一流体的最大压力，其中该第二压力是步骤(d)的体积内的流体 的最大压力。

9.根据权利要求1的方法，其中步骤(a)的体积内的流体在第一 温度下的第一压力处于该体积内的选取位置，其中步骤(d)的体积内 的流体在第二温度下的第二压力处于该体积内的所述的选取位置。

10.根据权利要求1的方法，其中该可聚合单体选自丙烯酸酯和甲 基丙烯酸酯。

11.根据权利要求1的方法，其中该可聚合单体的聚合是由选自以 下的引发剂引发的：偶氮型引发剂、过氧化物引发剂或过硫酸铵 /N，N，N′，N′-四甲基亚乙基二胺氧化还原引发剂体系。

12.根据权利要求1的方法，其中该抗静电剂具有亲水性基团和疏 水性基团。

13.根据权利要求1的方法，其中该抗静电剂是中性和/或离子表面 活性剂。

14.根据权利要求1的方法，其中该抗静电剂是阴离子磷酸酯。

15.根据权利要求14的方法，其中该抗静电剂选自ZELEC TY^TM、 ZELEC UN^TM和它们的混合物。

16.根据权利要求1的方法，其中该抗静电剂选自二(十八烷基) 二甲基氯化铵、二牛油基二甲基氯化铵、二(十六烷基)二甲基氯化 铵、双(二十二烷基)二甲基氯化铵、二(十二烷基)二甲基氯化铵、 二牛油基二甲基溴化铵、二油基二甲基氢氧化铵、二牛油基二乙基氯 化铵、二牛油基二丙基溴化铵、二牛油基二丁基氟化铵、十六烷基癸 基甲基乙基氯化铵、双[二牛油基二甲基铵]硫酸盐、三[二牛油基二甲 基铵]磷酸盐和它们的混合物。

17.根据权利要求1的方法，其中以第二流体总体积的 0.05vol％-5vol％的量将该抗静电剂添加到第二流体中。

18.根据权利要求1的方法，其中以第二流体总体积的 0.1vol％-1vol％的量将该抗静电剂添加到第二流体中。