[发明专利]高压连接装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680048022.9 申请日: 2006-10-27
公开(公告)号: CN101341328A 公开(公告)日: 2009-01-07
发明(设计)人: A·格洛克;J·哈肯贝格 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: F02M55/00 分类号: F02M55/00;F02M61/16;F16L19/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 曾立
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高压 连接 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及具有两个相互贴靠的密封面的高压连接装置。本发明还涉及用于制造这种高压连接装置的方法。

背景技术

高压连接装置的密封性可这样来改善,即与密封无关系的区域通过铣削使其下降,以便提高局部的单位面积压力。此外公知了使用由涂层的金属材料制成的O型圈。

发明内容

本发明的目的在于改善高压连接装置的密封性。

该目的在具有两个相互贴靠的密封面的高压连接装置上这样来解决,即至少一个密封面设置有一个局部的涂层。通过该局部的涂层得到适用于高压的针对组成部分特定的密封。在本发明方面“局部”意味着不是整个的密封面被涂以涂层,而仅是密封面的一部分被涂以涂层。由此在密封面上产生出一个密封结构。

该高压连接装置的一个优选实施例的特征在于:局部的涂层包含多种不同的材料。这些不同的材料可彼此重叠地和/或一个在另一个旁地布置。

在用于制造上述具有两个相互贴靠的密封面的高压连接装置的方法中,上述目的这样地解决,即通过电化学的金属沉积来产生局部的涂层。在优选应用电镀成型(Galvanoformen)的情况下仅局部地在密封面的确定区域中进行电化学的金属沉积。待沉积的材料与密封面的密封功能及基本材料相协调。

该方法的一个优选实施例的特征在于:局部的涂层的侧向的尺寸通过借助光掩模的光刻技术来产生。通过光刻技术将确定出在其中通过电镀成型进行电化学的材料沉积的区域。这里在所谓的正性抗蚀剂与所谓的负性抗蚀剂作出区分。在负性抗蚀剂的情况下,在优选用紫外线(UV-Licht)照射的部位上交联出一涂层。由此这些部位上的涂层在接着的显影过程中变得不可脱落。在正性抗蚀剂的情况下,在优选用紫外线照射的位置上的涂层被“破坏”。在接着的显影过程中在该位置上的涂层“被洗掉”。在本发明的框架中优选使用薄片抗蚀剂(Folienresist)形式的负性抗蚀剂。

该方法的另一优选实施例的特征在于:局部的涂层的侧向的尺寸通过激光辐射来确定。激光辐射能以简单的方式方法实现密封面的局部涂层。这里激光辐射可被用来使光致抗蚀剂曝光。但激光辐射也可被用来有目的地去除一掩模材料。

该方法的另一优选实施例的特征在于:光致抗蚀剂被预先批量制作,以形成目标几何结构。在预先批量制作时,通过冲压、剪切或激光加工在光致抗蚀剂中加工出所述目标几何结构。在此情况下使用薄片形式的光致抗蚀剂,正如该光致抗蚀剂例如在印刷电路板制造中被使用那样。该薄片形式的光致抗蚀剂例如为30cm宽及超过100m的长度。在本发明的范围中,预先批量制作的含义是使涂层的尺寸适配于待加工的面。

该方法的另一优选实施例的特征在于:将预先批量制作的光致抗蚀剂施加在密封面上。优选使用具有载体薄片的薄片抗蚀剂。但也可以使用液体抗蚀剂。

该方法的另一优选实施例的特征在于:使施加在密封面上的光致抗蚀剂光刻结构化,以便确定局部涂层的侧向的尺寸。该光刻结构化优选通过掩模及一个曝光器来实现。但光刻结构化也可通过激光辐射的有目的的作用来实现。

该方法的另一优选实施例的特征在于:由局部涂层构成的密封部分的功能通过局部涂层的材料及形状来调节。在此情况下例如可以使用一个相对软的材料来适配密封面的预给定的粗糙度或补偿一个配合面的不平度。可使用一个相对硬的材料来建立一咬边的功能,该咬边压入配合面中。通过用不同材料组合的多层覆方法可几乎任意地扩展所述密封的特性及功能。

附图说明

本发明的其它优点,特征及细节可从以下参照附图对各个实施例的详细描述的说明中得到。附图表示:

图1:一个传统高压连接装置的密封面,及

图2:一个根据本发明的高压连接装置的密封面。

具体实施方式

图1以俯视图表示一个基本上圆柱形的燃料喷射器体1。该燃料喷射器体1包括一个中心低压孔3及一个高压孔5以及另一低压孔6,后两孔被布置在中心低压孔3的径向外部。孔3,5及6都通到一个共同的密封面8中。燃料喷射器体1的密封面8在组装好的状态中与燃料喷射器的另一(未示出的)部件的另一密封面相接触。在组装好的状态中两个密封面被彼此相靠地紧紧地夹紧,以便在孔3,5及6与燃料喷射器的所述另一部件的其它孔之间形成压力密封的连接,这些其它孔对准孔3,5及6地延伸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680048022.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top