[发明专利]氧化还原介体

权利要求书

1.式I的配合物作为氧化还原介体的用途，

[M(A)_x(B)_y]^m(X^z)_n

式I

其中，M是钌或锇，并且具有0、1、2、3或4的氧化态；

x和n是独立选自1至6的整数；y是选自1至5的整数；m是-5至+4的 整数，并且z是-2至+1的整数；

A是含有1或2个氮原子的单齿或二齿芳族配体；

B是独立选为除杂环含氮配体以外的任意适合的配体；

X是任意适合的抗衡离子；

其中，A任选由独立选自下列基团的1至8个基团所取代：取代或未取代 的烷基，链烯基，或芳基-F，-Cl，-Br，-I，-NO₂，-CN，-CO₂H，-SO₃H， -NHNH₂，-SH，芳基，烷氧基羰基，烷基氨基羰基，二烷基氨基羰基，-OH， 烷氧基，-NH₂，烷基氨基，二烷基氨基，烷酰基氨基，芳基甲酰氨基，肼 基，烷基肼基，羟氨基，烷氧基氨基，烷硫基；

其中，配位原子的数量为6。

2.根据权利要求1中所述用途，其中A是由一个或多个CO₂R²基团 取代的单齿配体，或任选由一个或多个CO₂R²基团取代的二齿或三齿配 体。

3.根据权利要求2中所述的用途，其中将R²选为H。

4.根据权利要求1至3的任一项中所述的用途，其中A选自烟酸、异 烟酸、2，2’-联吡啶、2，2-联吡啶-5，5’-二羧酸、2，2-联吡啶-4，4’-二羧酸、5- 氯-8-羟基喹啉。

5.式II的配合物作为氧化还原介体的用途，

[M(A)_x(B)_y]^m(X^z)_n

式II

其中，M是钌或锇，并且具有0、1、2、3或4的氧化态；

x和n是独立选自1-6的整数；y是选自0-5的整数；m是-5至+4的整数， 并且z是-2至+1的整数；

A是二齿、三齿、四齿、五齿或六齿配体，所述配体可以是直链的，具有 式R¹RN(C₂H₄NR)_wR¹，或是环状的，具有式(RNC₂H₄)_v、(RNC₂H₄)_p(RNC₃H₆)_q或[(RNC₂H₄)(RNC₃H₆)]_s的，其中w是1-5的整数，v是3-6的整数，p和 q是1-3的整数，由此，p和q的总和为4、5或6，并且s是2或3，并且 其中R和R¹是氢或甲基；

B是独立选为任意适合的配体；

X是任意适合的抗衡离子；

其中，B任选由独立选自下列基团的1-8个基团所取代：取代或未取代的 烷基，链烯基，或芳基-F，-Cl，-Br，-I，-NO₂，-CN，-CO₂H，-SO₃H， -NHNH₂，-SH，芳基，烷氧基羰基，烷基氨基羰基，二烷基氨基羰基，-OH， 烷氧基，-NH₂，烷基氨基，二烷基氨基，烷酰基氨基，芳基甲酰氨基，肼 基，烷基肼基，羟氨基，烷氧基氨基，烷硫基；

其中，配位原子的数量为6。