[发明专利]用于分析方法的纳米多孔基底

权利要求书

1.分级或分离的方法，包括

(a)提供样品，其包含第一组分和第二组分；

(b)提供基底，其包含纳米多孔材料；和

(c)将所述纳米多孔材料暴露给所述样品，

其中所述暴露纳米多孔材料时，存留所述第一组分但不存留所述 第二组分。

2.依照权利要求1所述的方法，其中所述样品是生物流体的样品。

3.依照权利要求2所述的方法，其中所述生物流体是血清、血浆、 血液、尿液、精液、精浆、胸膜液、腹水、乳汁、粪便或唾液。

4.依照权利要求1所述的方法，其中所述第一组分和所述第二组 分包括肽、抗原、抗体、蛋白质、蛋白质片段、RNA或DNA。

5.依照权利要求1所述的方法，其中所述第一组分的分子量比所 述第二组分的分子量更低。

6.依照权利要求1所述的方法，其中所述纳米多孔材料是纳米多 孔硅。

7.依照权利要求1所述的方法，其中所述纳米多孔材料是纳米多 孔氧化物材料。

8.依照权利要求7所述的方法，其中所述纳米多孔氧化物是纳米 多孔二氧化硅。

9.依照权利要求1所述的方法，其中所述纳米多孔材料是分子截 留物。

10.依照权利要求1所述的方法，其中所述纳米多孔材料具有修饰 的表面。

11.依照权利要求10所述的方法，其中所述纳米多孔材料具有电 荷荷载表面。

12.依照权利要求10所述的方法，其中所述纳米多孔材料具有用 官能团修饰的表面。

13.依照权利要求1所述的方法，其中所述基底是膜、晶圆、颗粒 或微芯片。

14、依照权利要求1所述的方法，其中提供的所述基底包括通过 自顶向下的技术制造的基底。

15.依照权利要求14所述的方法，其中所述自顶向下的技术选自 光刻法、电子束蚀刻、X射线蚀刻、深紫外光刻和纳米压印法。

16.依照权利要求1所述的方法，进一步包括从所述纳米多孔材料 中萃取所述第一组分。

17.依照权利要求1所述的方法，进一步包括在所述暴露之时，冲 洗所述纳米多孔材料。

18.依照权利要求1所述的方法，其中纳米多孔材料吸附所述第一 组分。

19.依照权利要求1所述的方法，进一步包括分析所述第一组分。

20.依照权利要求19所述的方法，其中所述分析为通过质谱法、 凝胶电泳、层析色谱、生物试验或它们的组合进行的分析。

21.依照权利要求20所述的方法，其中所述质谱法为MALDI-TOF 质谱法、LC/MS质谱法、ESI-MS质谱法、串联质谱法或SELDI质谱 法。

22.一种分析样品的方法，包括

(a)提供所述样品；

(b)提供基底，其包含纳米多孔材料；和

(c)将所述纳米多孔材料暴露给所述样品；和

对通过所述纳米多孔材料所保留的所述样品部分进行分析。

23.依照权利要求22所述的方法，其中所述样品为生物流体的样 品。

24.依照权利要求23所述的方法，其中所述生物流体是血清、血 浆、血液、尿液、精液、精浆、胸膜液、腹水、乳汁、粪便或唾液。

25.依照权利要求22所述的方法，其中所述存留部分包括肽、抗 原、抗体、蛋白质、蛋白质片断、RNA或DNA。

26.依照权利要求22所述的方法，其中所述存留部分为吸附到所 述纳米多孔材料上的部分。