[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光感度、析像度出色的适合于干膜抗蚀剂(dry·film·resist)(DFR)等的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用所述图案形成材料的图案形成方法。

背景技术

一直以来，在形成布线图案等图案时，使用的是通过在支撑体上涂布、干燥感光性树脂组合物形成感光层的图案形成材料。作为所述永久图案的制造方法，例如在形成所述图案的镀铜叠层板等基体上，层叠所述图案形成材料形成层叠体，对该层叠体中的所述感光层进行曝光，在该曝光后，显影所述感光层，根据需要之后通过进行蚀刻处理等形成所述图案。

为了提高贮存稳定性或提高析像度，提出了所述图案形成材料在所述感光性树脂组合物中添加酚性羟基、芳香族、杂环或具有亚氨基等的化合物的阻聚剂(参照专利文献1～4)。但是，这种情况下，对于可以通过在所述感光性树脂组合物(所述感光层)中添加增感剂来抑制感度的降低，或者高感度的干抗蚀剂膜，均未公开。

在所述图案形成材料中的所述感光层中通常含有粘合剂，但着眼于该粘合剂的I/O值(有机概念图的无机性/有机性比)，该I/O值在一定的数值范围内的情况下，对于析像度及遮盖性出色而且显影性也出色方面，没有进行公开。另外，还没有着眼于单体的I/O值的提议，对于通过该单体I/O值与所述粘合剂I/O的调节以及这些比例的调节等而使显影性、析像度出色方面，也没有进行公开。

另外，为了使所述图案形成材料成为高感度，提出了使在图案形成材料中添加的光聚合引发剂为高浓度或者添加增感剂等。但是，这种情况下，利用曝光形成的固化膜中的单体聚合度变低，耐显影液性不充分，显影时发生线宽的收缩，有时显影性、析像度降低。特别是与邻接的线图案的间隔较宽地孤立的线图案由于容易受到显影液的影响，而发生收缩的趋势显著，难以实现高析像度。

因而，目前尚未提供高感度且显影性出色的可以得到高析像度的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用所述图案形成材料的图案形成方法，期望进一步进行改良开发。

专利文献1：特开2002-268211号公报

专利文献2：特开2003-29399号公报

专利文献3：特开2004-4527号公报

专利文献4：特开2004-4528号公报

发明内容

本发明正是鉴于这种现状而提出的，将解决过去的所述问题而实现以下目的为课题。即，本发明的目的在于提供一种高感度而且显影性出色的、可以得到高析像度和高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料的图案形成方法。

作为解决所述课题的方法，如下所述。即：

<1>一种图案形成材料，其特征在于，具有支撑体、在该支撑体上至少具有的感光层，该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂，该感光层的感度在20mJ/cm²以下，在曝光之后显影该感光层时的显影时间为15～50秒钟。在该<1>中记载的图案形成材料中，所述感光层含有所述粘合剂、所述聚合性化合物及所述光聚合引发剂，该感光层的感度在20mJ/cm²以下，在曝光之后显影该感光层时的显影时间为15～50秒钟，所以可以提供析像度出色、可以得到高精细的图案的图案形成材料。

<2>根据所述<1>中记载的图案形成材料，其中，以线宽10～40μm、线/空间(L/S)＝1/1以及L/S＝1/100，对感光层进行曝光、显影得到的图案中，所述利用L/S＝1/1的曝光形成的线图案与利用L/S＝1/100的曝光形成的线图案之间的线宽的差为5μm以下。

在该<1>中记载的图案形成材料中，由于以线宽10～40μm、线/空间(L/S)＝1/1以及L/S＝1/100，对感光层进行曝光、显影得到的图案中，所述利用L/S＝1/1的曝光形成的线图案与利用L/S＝1/100的曝光形成的线图案之间的线宽的差为5μm以下，所以可以提供高感度且显影性出色、特别是即使为线间的间隔较宽地孤立的线图案也难以发生收缩、可以得到析像度出色且高精细的图案的图案形成材料。

<3>根据所述<1>或<2>中记载的图案形成材料，其中，粘合剂的I/O值为0.5～0.8。

<4>根据所述<1>～<3>中任意一项记载的图案形成材料，其中，聚合性化合物的I/O值为0.5～1.5。