[发明专利]掩模坯料及光掩模有效

专利信息
申请号: 200680049390.5 申请日: 2006-12-26
公开(公告)号: CN101346664A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 三井胜;佐野道明 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/08 分类号: G03F1/08;G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 坯料 光掩模
【权利要求书】:

1.一种用于制造FPD设备的掩模坯料,其在透光性基板上至少具有 灰色调掩模用半透光性膜,该灰色调掩模用半透光性膜具有调节透过量的 功能,其特征在于,

所述灰色调掩模用半透光性膜是膜厚在20~250埃的范围内的CrN膜 或MoSi4膜、或者膜厚在15~200埃的范围内的MoSi2膜,

所述灰色调掩模用半透光性膜在由超高压汞灯放射的至少从i线到g 线的波长带区域中,透过率的变动幅度在不足5%的范围。

2.一种用于制造FPD设备的掩模坯料,其在透光性基板上至少具有 灰色调掩模用半透光性膜,该灰色调掩模用半透光性膜具有调节透过量的 功能,其特征在于,

所述灰色调掩模用半透光性膜是膜厚在20~250埃的范围内的CrN膜 或MoSi4膜,

所述灰色调掩模用半透光性膜在波长330nm~470nm之间的波长带区 域中,透过率的变动幅度在不足10%的范围。

3.根据权利要求2所述的用于制造FPD设备的掩模坯料,其特征在 于,

所述灰色调掩模用半透光性膜是膜厚在20~250埃的范围内的CrN膜 时,

所述灰色调掩模用半透光性膜在波长330nm~470nm之间的波长带区 域中,透过率的变动幅度在不足5%的范围。

4.一种掩模坯料,其在透光性基板上至少具有半透光性膜,该半透 光性膜具有调节透过量的功能,其特征在于,

所述掩模坯料是在所述半透光性膜被图案化处理而成为光掩模后,在 制造设备时,利用包含多个波长的曝光光进行曝光处理的光掩模用的掩模 坯料,

所述半透光性膜是膜厚在20~250埃的范围内的CrN膜或MoSi4膜、 或者膜厚在15~200埃的范围内的MoSi2膜,

所述半透光性膜在由超高压汞灯放射的至少从i线到g线的波长带区 域中,透过率的变动幅度在不足5%的范围。

5.一种用于制造FPD设备的光掩模,其特征在于,

其使用权利要求1~3中所述的掩模坯料制造,且至少具有灰色调掩 模用半透光性膜图案。

6.一种光掩模,其特征在于,

其使用权利要求4所述的掩模坯料制造。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社,未经HOYA株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680049390.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top