[发明专利]光电有源半导体材料以及光电池无效
申请号: | 200680050332.4 | 申请日: | 2006-12-18 |
公开(公告)号: | CN101351894A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | H-J·施特策尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;李峥 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 有源 半导体材料 以及 光电池 | ||
1.一种光电有源半导体材料,包括碲化锌晶格,其中,所述碲化锌晶格中的ZnTe被下列物质取代:
·0.01至10摩尔%的CoTe,
·0至10摩尔%的Cu2Te、Cu3Te或CuTe,以及
·0至30摩尔%的选自MgTe和MnTe的至少一种化合物,
其中Te被下列物质取代:
·0.1至30摩尔%的氧。
2.根据权利要求1的光电有源半导体材料,其中,所述碲化锌晶格中的Te被0至10摩尔%的选自N和P的至少一种元素所取代。
3.一种光电池,包括光电有源半导体材料,所述光电有源半导体材料包括碲化锌晶格,其中,所述碲化锌晶格中的ZnTe被下列物质取代:
·0.01至10摩尔%的CoTe,
·0至10摩尔%的Cu2Te、Cu3Te或CuTe,以及
·0至30摩尔%的选自MgTe和MnTe的至少一种化合物,
其中Te被下列物质取代:
·0.1至30摩尔%的氧,
其中所述光电池还包括由背接触材料构成的背接触,所述背接触材料与碲一起形成金属碲化物。
4.根据权利要求3的光电池,其中,所述背接触材料包含选自Cu、Ag、Zn、Cr、Mo、W、Co和Ni的至少一种元素。
5.根据权利要求3的光电池,其中,所述碲化锌晶格中的Te被0至10摩尔%的选自N和P的至少一种元素所取代。
6.根据权利要求3的光电池,包括由所述光电有源半导体材料构成的至少一个p导电吸收器层,其中所述吸收器层设置在所述背接触材料上。
7.根据权利要求3的光电池,包括n导电透明层,所述n导电透明层包含选自氧化铟锡、掺氟的氧化锡、掺锑的氧化锌、掺镓的氧化锌以及掺铝的氧化锌的至少一种半导体材料。
8.根据权利要求3的光电池,包括由所述光电有源半导体材料构成的至少一个p导电层、至少一个n导电层以及一衬底,所述衬底是涂有导电材料的玻璃片、柔性金属箔或柔性金属片。
9.一种用于制造根据权利要求1或2的光电有源半导体材料或者根据权利要求3至8中任一项的光电池的方法,其中,通过选自溅射、电化学沉积、无电沉积、物理气相沉积、化学气相沉积和激光烧蚀的至少一种沉积方法,制造所述光电有源半导体材料的层,其中所述光电有源半导体材料的材料与碲一起形成金属碲化物。
10.根据权利要求9的方法,其中,为了用氧来取代所述光电有源半导体材料的晶格中的碲,在含氧气氛中进行所述光电有源半导体材料的层的制造。
11.根据权利要求9的方法,其中,将包含光电有源半导体材料的溅射靶用于溅射,其中所述光电有源半导体材料包括碲化锌晶格,所述碲化锌晶格中的ZnTe被下列物质取代:
·0.01至10摩尔%的CoTe,
·0至10摩尔%的Cu2Te、Cu3Te或CuTe,以及
·0至30摩尔%的选自MgTe和MnTe的至少一种化合物。
12.根据权利要求9的方法,其中,通过在含氧气氛中的溅射,将氧引入所述光电有源半导体材料的层中。
13.根据权利要求9的方法,其中,通过在含氮、含氨或含磷化氢的溅射气氛中的反应溅射,将氮或磷引入所述光电有源半导体材料的层中。
14.根据权利要求9的方法,其中,通过共溅射铜靶与包含所述光电有源半导体材料的靶,将铜引入所述光电有源半导体材料的层中。
15.根据权利要求9的方法,其中,制造厚度为0.1μm至20μm的所述光电有源半导体材料的层。
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