[发明专利]用于光存储介质的分析的装置和方法

权利要求书

1.一种用于分析光存储介质的表面的方法，包括：

将至少一个光信号引导到光存储介质的外表面上，所述光存储介 质包括编码的数据；

检测从所述光存储介质的所述外表面反射的至少一个光信号的 若干部分；以及

与检测从所述外表面反射的至少一个光信号的若干部分相关地 判定所述编码的数据是否可以与准确地读取。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括 提供在所述光存储介质和所述至少一个光信号之间的相对移动。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，提供在所述光存 储介质和所述至少一个光信号之间的相对移动的操作包括转动所述 光存储介质。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，提供在所述光存 储介质和所述至少一个光信号之间的相对移动的操作包括相对于所 述光存储介质移动所述至少一个光信号的源。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，提供在所述光存 储介质和所述至少一个光信号之间的相对移动的操作包括相对于所 述至少一个光信号移动所述光存储介质。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将至少一个光信 号引导到光存储介质的外表面上的操作包括将至少一个光信号引导 到所述光存储介质的所述外表面的涂层上。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定操作包 括与所述至少一个反射光信号的检测相关地判定精确地读取在所述 光存储介质上编码的所述数据的可能性。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述检测操作还 包括提供输出信号，所述输出信号与所述至少一个光信号的已检测部 分相关。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述确定操作包 括将所述输出信号与参考信号相比较。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法还包括 将所述输出信号与第一参考电压、第二参考电压、第三参考电压和第 四参考电压相比较，其中各参考电压与所述光存储介质的缺陷相关 联，所述缺陷与精确地读取在所述光存储介质上编码的数据的可能性 相关联。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个光 检测器包括第一光检测器和第二光检测器，并且所述确定操作包括根 据公式计算损害级别：

损害级别＝平方根{A*(V1)^2+B*(V2)^2}/M

其中V1＝来自第一光检测器的数字化电压，V2＝来自第二光 检测器的数字化电压，并且A、B和M为取决于各检测器所需加权的 可调整参数。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个光 信号包括激光信号。

13.一种用于分析光存储介质的装置，包括：

构造成支撑所述光存储介质的平台，所述光线存储介质限定 具有数据层的至少一个面；

定位成照射所述具有数据层的至少一个面的至少一个发光 体；

至少一个光检测器，其定位成接收从所述光存储介质反射的 光，并提供与所述接收到的反射光相关的输出信号；以及

至少一个电路元件，其构造成接收来自所述光检测器的所述 输出信号，并提供指示所述具有数据层的至少一个面的整体性的输 出。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述至少一个 发光体定位成沿主轴线照射所述具有数据层的至少一个面，并且所述 至少一个光检测器沿主反射轴线定位，所述主反射轴线为从所述光存 储介质的大体上无瑕疵的表面所反射的光、以及沿所述主轴线入射在 所述无瑕疵的表面上的光所采取的路径。

15.根据权利要求14所述的装置，其特征在于，所述装置还包 括不沿所述主反射轴线定位的至少一个离轴光检测器。