[发明专利]动态侦测移动基材损毁和偏位的传感器

权利要求书

1.一种用于侦测基材缺陷的设备，包含：

第一传感器；以及

第二传感器，

当基材通过所述第一和第二传感器时，所述第一传感器侦测所述基材 在接近所述基材的第一边缘而所述第二传感器侦测所述基材在接近与该基 材的该第一边缘平行的第二边缘，其中当所述基材通过所述第一和第二传 感器时，所述第一传感器或所述第二传感器的各者适于在距离所述基材的 第一边缘和第二边缘向内的标称距离上发射光束至所述基材的顶表面或底 表面之上，其中所述第一和第二传感器中的每一个包括：

发送器；

接收器；

反射器；以及

滤波器，用以阻隔热能量到达所述反射器，

其中，所述发送器与所述接收器位于所述基材的边缘下方并且所述反 射器位于所述基材的所述边缘上方，使得一公共垂直的平面与所述发送器、 所述接收器以及所述反射器相交。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一与第二传感器是位于处理 室的通道附近，使得在所述基材进入所述通道前或离开所述通道后，侦测 所述基材的边缘部分。

3.如权利要求2所述的设备，另包含

数个观察窗口，其中所述第一与所述第二传感器中每一个是固定在观 察窗口的外部上或接近所述观察窗口的所述外部，使得所述第一与所述第 二传感器中每一个的光束路径可通过所述观察窗口。

4.如权利要求1所述的设备，另包含

机械手臂，具有第一臂，第一臂连接至末端效应器以支撑所述基材并 传送所述基材通过每个所述第一与所述第二传感器的光束路径；以及

第二臂，连接至另一末端效应器上以同时支撑并移动另一基材。

5.如权利要求1所述的设备，另包含

至少一个末端效应器，用以支撑所述基材并传送所述基材通过每个所 述第一与所述第二传感器的光束路径。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述发送器包含：

激光或发光二极管。

7.如权利要求6所述的设备，其中所述发送器为激光器，用以发射激 光束，所述激光束具有小于约3毫米的直径。

8.一种用以侦测基材缺陷的设备，包含：

机械手臂，具有至少一个基材支持表面，用以支持基材于所述基材支 持表面上；以及

传感器系统，包含第一传感器，所述第一传感器位于适当位置以当基 材在至少一个基材支持表面上被传送时，在接近所述基材的第一边缘侦测 所述基材；以及第二传感器，所述第二传感器位于适当位置以当基材在至 少一个基材支持表面上被传送时，在接近与所述基材的第一边缘平行的第 二边缘侦测所述基材，其中所述第一传感器或所述第二传感器的各者适于 在距离所述基材的所述第一边缘和所述第二边缘向内的标称距离上发射光 束至所述基材的顶表面或底表面之上，其中所述第一和第二传感器中的每 一个包括：

发送器；

接收器；

反射器；以及

滤波器，用以阻隔热能量到达所述反射器；

其中，所述发送器与所述接收器位于所述基材的边缘下方并且所述反 射器位于所述基材的所述边缘上方，使得一公共垂直的平面与所述发送器、 所述接收器以及所述反射器相交。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述第一与所述第二传感器是位于 处理室的通道附近，使得在所述基材进入所述通道前或在离开所述通道后， 侦测所述基材的边缘部分。

10.如权利要求8所述的设备，其中所述传感器系统另包含

数个观察窗口，其中每个所述第一与所述第二传感器是固定在观察窗 口的外部上或接近所述观察窗口的所述外部，使得每个所述第一与所述第 二传感器的光束路径可通过所述观察窗口。

11.如权利要求8所述的设备，其中所述至少一个基材支持表面包含 末端效应器，用以支撑所述基材并传送所述基材通过每个所述第一与所述 第二传感器的光束路径。