[发明专利]板状体的研磨方法及其装置有效

专利信息
申请号: 200680051523.2 申请日: 2006-11-17
公开(公告)号: CN101360584A 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 生田康成;铃木健雄 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: B24B7/06 分类号: B24B7/06;B24B7/24
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 刘多益
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 板状体 研磨 方法 及其 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及板状体的研磨方法及其装置,特别是涉及利用连续研磨装置对 液晶显示用途等中使用的FPD(平板显示)用玻璃基板进行研磨的板状体研磨 方法及其装置。

背景技术

特别是液晶显示用途等中使用的FPD用玻璃基板,通过采用被称为浮法 的平板玻璃制造方法将熔融玻璃成形成板状,利用专利文献1等中公开的连续 式研磨装置将其表面的微小凹凸和起伏研磨除去,从而制成达到液晶显示用玻 璃基板所要求的平坦度的厚0.4~1.1mm的薄板状。

在上述连续式研磨装置中,如专利文献1所述,通常利用直径大于玻璃基 板宽度的自转且公转的研磨具对玻璃基板的整个宽度范围进行一次性研磨。

图5是表示玻璃基板G被已有的连续式研磨装置研磨的状态的说明图。 玻璃基板G的研磨对象面的相反面被工作台(未图示)上粘接的吸附片1吸附 保持,如图中箭头A所示,玻璃基板G被未图示的运送装置连续运送,利用 设置于其运送路径上方的研磨机的研磨具2、3对研磨对象面进行研磨。如同 图所示,研磨具2、3的直径大于玻璃基板G的宽度,利用自转/公转机构(未 图示)以规定的旋转中心为中心进行自转,并以规定的公转中心为中心进行公 转,同时对玻璃基板G的整个宽度范围进行一次性研磨。另外,图5中,实线 表示的圆为研磨具2、3的当前状态,双点划线表示的许多圆为玻璃基板G与 研磨具2、3接触的部分的轮廓部。从这些圆可知,研磨具2、3以规定的公转 中心为中心进行公转。

专利文献1:日本专利特开2001-293656号公报

发明的揭示

但是,专利文献1和图5所示的连续研磨装置适用于尺寸小的玻璃基板的 研磨,但难以应用于例如宽度超过2200mm的大尺寸玻璃基板的研磨。这是因 为,若要对上述大尺寸玻璃基板进行研磨,则研磨具的尺寸(约φ2400mm) 过大,因而会在研磨具的材料确保、研磨装置及研磨具的加工组装精度的维持、 研磨具的更换作业及操作性以及研磨精度的维持等方面出现问题。

本发明是鉴于上述情况而完成的发明,目的在于提供能以良好的精度对大 尺寸板状体进行研磨的板状体的研磨方法及其装置。

为了实现上述目的,本发明提供使板状体向规定方向移动的同时利用多台 自转且公转的圆形研磨具对板状体进行连续研磨的板状体研磨方法,其特征在 于,将直径小于上述板状体宽度的上述圆形研磨具以上述板状体的移动中心线 为基准成对配置,且上述圆形研磨具越出移动中心线而对上述板状体进行研磨 (以下称为本发明的研磨方法)。

而且,为了实现上述目的,本发明提供使板状体向规定方向移动的同时利 用多台自转且公转的圆形研磨具对板状体进行连续研磨的板状体研磨装置,其 特征在于,上述圆形研磨具的直径小于上述板状体的宽度,并且以板状体的移 动中心线为基准成对配置,上述圆形研磨具越出中心线而对上述板状体进行研 磨(以下称为本发明的研磨装置)。

根据本发明,不是采用一台大型研磨具,而是通过备齐多台直径小于板状 体宽度的小型圆形研磨具,将这些圆形研磨具以板状体的移动中心线为基准成 对配置,圆形研磨具越出移动中心线而对板状体进行研磨,从而对板状体的整 个研磨面进行研磨。另外,根据本发明,由于研磨具的直径变小,因而能解决 在研磨具的材料确保、研磨装置及研磨具的加工组装精度的维持、研磨具的更 换作业及操作性以及研磨精度的维持等方面存在的问题。

本发明的研磨方法优选利用沿上述板状体的移动方向配置的至少2对上 述圆形研磨具对板状体进行研磨。

本发明的研磨装置优选沿上述板状体的移动方向配置至少2对上述圆形 研磨具。

根据本发明的实施方式,圆形研磨具的排列方式为相对于板状体的移动中 心线成对且等间距地平行配置。另外,也可以沿板状体的移动方向将圆形研磨 具例如呈交错状并列,或在相同位置并列,呈交错状并列时,研磨具动作的设 定条件的自由度大,因而优选。

本发明的研磨方法中,上述圆形研磨具优选将研磨时从上述板状体移动方 向的上述板状体一端悬伸的量A设定为20mm≤A≤250mm而对板状体进行研 磨。

本发明的研磨装置中,上述圆形研磨具优选将从上述板状体移动方向的上 述板状体一端悬伸的量A设定为20mm≤A≤250mm。

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