[发明专利]用于离子注入系统的离子束角度测量系统和方法

权利要求书

1.一种离子注入系统，所述系统包括：

离子源，所述离子源产生离子束；

射束线组件，所述射束线组件接收来自离子源的离子束，并处理该离 子束；

角度检测仪，所述角度检测仪接收来自所述射束线组件的离子束，并 包括：

结构，所述结构具有通过其中的狭缝，所述狭缝包括入口开口、出口 开口、以及在入口开口和出口开口之间的狭缝轮廓，其中所述入口开口的 尺寸和形状、所述出口开口的尺寸和形状以及在其间的狭缝轮廓确定离子 束的离子可以穿过的第一选择角度范围，并且，所述入口开口大于或小于 所述出口开口；以及

传感器机构，所述传感器机构接收所述离子束的穿过第一选择角 度范围的部分，并获得该部分的离子束的电流测量值；以及

目标位置，所述目标位置接收来自射束线组件的离子束。

2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括位于射束线组件下游的终 端站，所述终端站将目标晶片夹持，作为目标位置。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述终端站进一步包括处理盘， 所述角度检测仪的结构安装在所述处理盘上。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述终端站是单个晶片终端站。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述狭缝轮廓具有三角形的形 状。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述角度检测仪进一步包括：

第二结构，所述第二结构具有通过其中的第二狭缝，所述第二狭缝包 括入口开口、出口开口、以及在入口开口和出口之间的狭缝轮廓，其中所 述入口开口的尺寸和形状、所述出口开口的尺寸和形状、以及在其间的狭 缝轮廓确定离子束的离子可以穿过的第二选择角度范围；以及

第二传感器机构，所述第二传感器机构接收所述离子束的穿过第二选 择角度范围的第二部分，并获得离子束的第二部分的第二射束电流测量 值。

7.根据权利要求6所述的系统，进一步包括分析仪部件，该分析仪部 件从传感器机构获得射束电流测量值以及从第二传感器机构获得第二射 束电流测量值，并至少部分地根据所述射束电流测量值和所述第二射束电 流测量值确定入射离子束的测量的入射角。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述射束线组件根据选择的入射 角，相对于目标位置调节离子束的入射角。

9.根据权利要求8所述的系统，其中测量的入射角等于选择的入射 角。

10.一种离子注入系统，所述系统包括：

离子源，所述离子源产生离子束；

射束线组件，所述射束线组件接收来自离子源的离子束，并处理该离 子束；

角度检测仪，所述角度检测仪接收来自射束线组件的离子束，并包括：

第一非对称掩模，所述第一非对称掩模限定用于根据第一角度范围使 离子束的一部分选择性地穿过的狭缝；以及

传感器机构，所述传感器机构接收离子束的所述部分，并获得该部分 的射束电流测量值；以及

目标位置，所述目标位置接收来自射束线组件的离子束。

11.根据权利要求10所述的系统，其中所述角度检测仪进一步包括第 二非对称掩模，所述第二非对称掩模限定用于根据第二角度范围使离子束 的第二部分选择地穿过的狭缝；

12.根据权利要求11所述的系统，进一步包括第二传感器机构，所述 第二传感器机构接收离子束的第二部分，并获得第二部分的第二射束电流 测量值。

13.根据权利要求11所述的系统，其中角度的第二范围在与该角度的 第一范围的方向相反的方向上。

14.根据权利要求10所述的系统，进一步包括位于射束线组件下游的 终端站，所述终端站将目标晶片夹持，作为目标位置。

15.根据权利要求14所述的系统，其中所述终端站包括目标装置处理 系统，所述目标装置处理系统用于在单个批次中将多个目标装置输送至离 子束。