[发明专利]分子筛SSZ-73有效
申请号: | 200680052851.4 | 申请日: | 2006-12-13 |
公开(公告)号: | CN101374765A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
发明(设计)人: | S·I·佐内斯;小艾伦·W·伯顿;K·翁 | 申请(专利权)人: | 雪佛龙美国公司 |
主分类号: | C01B33/26 | 分类号: | C01B33/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 孙爱 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分子筛 ssz 73 | ||
发明背景
发明领域
本发明涉及基本上全二氧化硅的新型结晶分子筛SSZ-73,使用3- 乙基-1,3,8,8-四甲基-3-氮杂双环[3.2.1]辛烷阳离子作为结构导向 剂(“SDA”)制备SSZ-73的方法,和SSZ-73的用途。
现有技术状况
由于它们独特的筛分特性,以及它们的催化性能,结晶分子筛和 沸石尤其可用于例如烃转化、气体干燥和分离之类的用途。尽管已经 公开了许多不同的结晶分子筛,仍然需要用于气体分离和干燥、烃和 化学品转化和其它用途的具有合意的性质的新型分子筛。新型分子筛 可以含有新型内孔结构,从而在这些工艺中提供提高了的选择性。
发明概述
本发明涉及具有独特性质的一类结晶分子筛,其在本文中被称为 “分子筛SSZ-73”或简称为“SSZ-73”。SSZ-73以它的硅酸盐形式 得到。术语“硅酸盐”是指含有全二氧化硅或与二氧化硅另一种氧化 物摩尔比非常高的分子筛。
根据本发明,提供了这样的分子筛,该分子筛包含基本上全二氧 化硅并在煅烧后具有表II的X-射线衍射线。
本文所用的术语“基本上全二氧化硅”是指该分子筛的晶体结构 仅由二氧化硅构成或由二氧化硅和仅痕量的其它氧化物例如氧化铝构 成,所述其它氧化物可作为二氧化硅源中的杂质而引入。
本发明还提供了这样的结晶分子筛,其在合成后原样状态和在无 水状态下具有以下组成,所述组成包含二氧化硅和按摩尔比计的以下 物质:
M2/n/SiO2 0-0.03
Q/SiO2 0.02-0.08
F/SiO2 0.01-0.10
其中M是碱金属阳离子、碱土金属阳离子或它们的混合物;n是M的 价态(即1或2);Q是3-乙基-1,3,8,8-四甲基-3-氮杂双环[3.2.1] 辛烷阳离子,和F是氟。
根据本发明,还提供了包含基本上全二氧化硅的结晶材料的制备 方法,所述方法包括在结晶条件下使二氧化硅活性源、氟离子和包含 3-乙基-1,3,8,8-四甲基-3-氮杂双环[3.2.1]辛烷阳离子的结构导向 剂接触。本发明包括这样的方法,其中所述结晶材料在煅烧后具有表 II的X-射线衍射线。
本发明包括这样的制备结晶材料的方法,所述方法使用反应混合 物,所述反应混合物包含二氧化硅和按摩尔比计的以下物质:
OH-/SiO2 0.20-0.80
Q/SiO2 0.20-0.80
M2/n/SiO2 0-0.04
H2O/SiO2 2-10
HF/SiO2 0.20-0.80
其中M是碱金属阳离子、碱土金属阳离子或它们的混合物;n是M 的价态(即1或2);Q是3-乙基-1,3,8,8-四甲基-3-氮杂双环[3.2.1] 辛烷阳离子。
气体分离
根据本发明,提供了分离气体的方法,所述方法包括使气体混合 物与含有分子筛的膜接触,其中所述分子筛是结晶分子筛,所述结晶 分子筛包含基本上全二氧化硅并在煅烧后具有表II的X-射线衍射线。 所述气体混合物可包含二氧化碳和甲烷。
氮氧化物的还原
根据本发明,提供了气流中所含的氮氧化物的还原方法,其中所 述方法包括使所述气流与结晶分子筛接触,其中所述结晶分子筛包含 基本上全二氧化硅并在煅烧后具有表II的X-射线衍射线。所述分子 筛可以含有能够催化氮氧化物还原的金属或金属离子(例如钴、铜、 铂、铁、铬、锰、镍、锌、镧、钯、铑或它们的混合物),和所述方 法可以在化学计量过量的氧气的存在下实施。在一个实施方案中,所 述气流是内燃机的废气流。
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