[发明专利]用于处理同种异体移植产品的装置和方法

权利要求书

1.一种用于处理同种异体移植物的装置，包括：

(a)能够将超声波能量传入罐内部的超声处理罐，并且所述超声 处理罐能够容纳超声处理流体；

(b)位于所述超声处理罐内并通过所述超声处理罐支承的处理 筒，所述处理筒能够相对于所述超声处理罐容纳和可旋转地定位同 种异体移植物，并且所述处理筒相对于所述超声处理罐密封，使得 所述超声处理流体无法进入所述处理筒的内部；以及

(c)具有与所述处理筒流体连通并可旋转地连接到所述处理筒 的管路的处理流体源，所述处理流体源能够将至少一种处理流体供 应到通过所述超声处理罐支承的处理筒的内部，并且所述管路与所 述处理筒可旋转地连接，并能够在所述处理筒保持与所述流体源流 体连通的同时，允许所述处理筒同时转动，并允许与所述处理筒交 换所述处理流体；和

(d)流体控制系统，其能够更换所述处理筒内的处理流体，而无 需将同种异体移植物从处理筒中取出。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述处理筒上开有小孔，以 使所述超声处理罐内的流体能够流入所述处理筒。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述超声处理罐装有超声处 理流体且所述处理筒被相对于所述超声处理罐密封，以使所述超声 处理流体无法进入所述处理筒内部。

4.如权利要求1所述的装置，还包括用于在所述超声处理罐内 旋转所述处理筒的电机。

5.如权利要求1所述的装置，还包括与所述处理筒的内部选择 性地流体连通的多个处理流体源。

6.如权利要求1所述的装置，其中所述装置至少包括第一和第 二处理流体源，且所述流体控制系统能够将第一处理流体送入所述 处理筒内，并能够用第二处理流体替换所述处理筒内的第一处理流 体。

7.如权利要求1所述的装置，其中所述处理筒包括用于同时处 理最多四个不同捐赠移植物的至少四个筒，并且所述处理筒能够被 设置用于同时处理更多个捐赠移植物。

8.如权利要求1所述的装置，还包括与所述处理筒流体连通的 处理流体出口以及与所述处理流体出口选择性流体连通的过滤器。

9.如权利要求1所述的装置，其中所述处理筒具有旋转轴线， 且所述处理筒的内部在垂直于所述旋转轴线的平面内具有非圆形的 截面形状。

10.如权利要求1所述的装置，还包括设置用于控制所述超声 处理流体的温度的温度控制器。

11.如权利要求1所述的装置，还包括与所述超声处理罐相联 并能够控制传入所述超声处理罐内部的超声波能量的量的可编程逻 辑控制器。

12.如权利要求1所述的装置，其中所述处理流体(ml)与组 织(g)的比值从大约1∶5到大约1∶2。

13.如权利要求1所述的装置，其中所述处理流体(ml)与组 织(g)的比值大约为1∶2。

14.如权利要求1所述的装置，其中所述筒包括一个或多个内 部隔板。

15.如权利要求1所述的装置，其中所述处理筒在筒的内表面 上包括一个或多个凹槽或肋条。