[发明专利]感光性树脂组合物及感光性转印薄膜以及图案形成方法无效
申请号: | 200680053832.3 | 申请日: | 2006-11-08 |
公开(公告)号: | CN101401035A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 南一守;后藤靖友;佐藤守正 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/033;H05K3/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱 丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 薄膜 以及 图案 形成 方法 | ||
1.一种感光性树脂组合物,其特征在于,
含有粘合剂、聚合性化合物以及光聚合引发剂,熔融粘度在50℃下为40,000~120,000Pa·s,在70℃下为5,000~20,000Pa·s。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,
粘合剂含有重均分子量为3,000~10,000的共聚物A和重均分子量为30,000~150,000的共聚物B,所述共聚物A与所述共聚物B的质量比为A/B=10/90~90/10。
3.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物,其中,
共聚物A与共聚物B的质量比为A/B=10/90~40/60。
4.根据权利要求2~3中任意一项所述的感光性树脂组合物,其中,
共聚物A具有:来源于苯乙烯及苯乙烯衍生物的至少任意一种物质的结构单元。
5.根据权利要求2~4中任意一项所述的感光性树脂组合物,其中,
共聚物B含有:具有羧基的乙烯系单体。
6.根据权利要求1~5中任意一项所述的感光性树脂组合物,其中,
聚合性化合物含有:具有尿烷基及芳基的至少任意一种基团的单体。
7.根据权利要求1~6中任意一项所述的感光性树脂组合物,其中,
光聚合引发剂含有:从卤代烃衍生物、氧化膦、六芳基联咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、酰基氧化膦化合物、芳香族鎓盐以及酮肟醚中选择的至少一种物质。
8.一种感光性转印薄膜,其特征在于,
在支撑体上具有由权利要求1~7中任意一项所述的感光性树脂组合物形成的感光层。
9.根据权利要求8所述的感光性转印薄膜,其中,
在用390~420nm波长的激光对感光层进行曝光、显影时,使该感光层的曝光部分的厚度在该曝光及显影后不发生变化的、在所述曝光中使用的光的最小能量即感度为0.1~20mJ/cm2。
10.一种图案形成方法,其特征在于,
包括:在将权利要求8~9中任意一项所述的感光性转印薄膜中的该感光层层叠在被处理基体上之后,对该感光层进行曝光的工序。
11.根据权利要求10所述的图案形成方法,其中,
使用曝光头,其中,所述曝光头具备光照射机构和光调制机构,所述光调制机构具有接受来自所述光照射机构的光并射出的n个(其中,n为2以上的自然数)排列成二维状的描素部,所述光调制机构可以对应图案信息来控制所述描素部,另外,所述曝光头配置成所述描素部的列方向相对该曝光头的扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ,
利用使用描素部指定机构,对于所述曝光头,指定可以使用的所述描素部中的用于N重曝光的所述描素部,其中,N为2以上的自然数,
利用描素部控制机构,对于所述曝光头,以只有由所述使用描素部指定机构指定的所述描素部参与曝光的方式,进行所述描素部的控制,
相对于所述感光层,使所述曝光头在扫描方向上相对地移动。
12.根据权利要求11所述的图案形成方法,其中,
利用多个曝光头进行曝光,使用描素部指定机构指定:在参与由多个所述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光曝光头间连接区域的曝光的描素部中,为了实现所述曝光曝光头间连接区域中的N重曝光而使用的所述描素部。
13.根据权利要求12所述的图案形成方法,其中,
利用多个曝光头进行曝光,使用描素部指定机构指定:在参与由多个所述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光曝光头间连接区域以外的曝光的描素部中,为了实现所述曝光曝光头间连接区域以外的区域中的N重曝光而使用的所述描素部。
14.根据权利要求11~13中任意一项所述的图案形成方法,其中,
设定倾斜角度θ设定成相对θideal,满足θ≧θideal的关系,其中,相对于N重曝光数的N、描素部的列方向的个数s、所述描素部的列方向的间隔p以及在使曝光头倾斜的状态下沿着与该曝光头的扫描方向正交的方向上的描素部的列方向的间距δ,θideal满足s p sin θideal≧Nδ。
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