[发明专利]光学滤片的锌基薄膜处理方法无效
申请号: | 200680054989.8 | 申请日: | 2006-09-14 |
公开(公告)号: | CN101467078A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
发明(设计)人: | R·蒂尔斯奇;T·伯梅;C·H·斯托塞尔;L·博曼 | 申请(专利权)人: | 南壁技术股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 郭 辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 薄膜 处理 方法 | ||
1.一种提供光学滤片的方法,其包括以下步骤:
在基片上形成迭层,使所述迭层包括金属层和介电层,包括通过以下步骤定义至少一层所述介电层;
形成第一锌基薄膜,包括以下步骤:基于包含形成锌基薄膜的过程稳定性在内的因素,在所述第一锌基薄膜内选择第一锌百分比;以及
形成第二锌基薄膜,包括以下步骤;基于包含建立随后形成的所述金属层的种子层的目标性能在内的因素,在所述第二锌基薄膜内选择第二锌百分比,所述第二百分比须大于所述第一百分比。
2.如权利要求1的方法,其特征在于,定义所述至少一层介电层还包括以下步骤:在形成所述第一和第二锌基层以及随后形成所述金属层之其中一层之前形成铟基薄膜,以使所述至少一层介电层包括连续的(a)所述铟基薄膜,(b)所述第一锌基薄膜以及(c)所述第二锌基薄膜。
3.如权利要求2的方法,其特征在于,所述金属层包含银,所述铟基薄膜在富氢环境中形成为铟氧化物。
4.如权利要求1的方法,其特征在于,在反应溅镀过程中将所述第一和第二锌基薄膜溅镀沉积为锌钖合金薄膜,以形成低吸收的锌钖合金氧化层。
5.如权利要求1的方法,其特征在于,包括在25%至75%的选择范围内选择所述第一锌百分比,以及包括在80%至100%的选择范围内选择所述第二百分比。
6.如权利要求1的方法,其特征在于,形成所述迭层包括提供交替式样的所述介电和金属层,使所述介电层之其中一层最靠近所述迭层内的所述基片。
7.如权利要求6的方法,其特征在于,形成所述迭层包括提供五层所述介电层和四层所述金属层。
8.如权利要求7的方法,其特征在于,所述金属层为银或银合金,并形成所述介电层,使每一所述介电层内均包括最近所述基片的铟氧化膜。
9.如权利要求1的方法,其特征在于,所述方法还包括提供所述基片,作为用于等离子显示屏上的柔韧性透明件。
10.一种滤片装置,其包括:
透明基片;以及
在所述基片上的迭层,所述迭层包括:
第一金属层;
在所述金属层相对侧上的第一和第二介电层,所述第一介电层比所述第二介电层更靠近所述基片,每一所述介电层包括第一锌基薄膜,以及包含锌百分比大于所述第一锌基薄膜的第二锌基薄膜,使得与所述第一金属层的金属的种子薄膜密切相关,所述第二介电层包括位于所述第一金属层和所述第一锌基薄膜之间的铟基薄膜;以及
为实现目标方块电阻的重复样式的另外的所述金属层及另外的所述介电层。
11.如权利要求10的滤片装置,其特征在于,所述第二锌基薄膜中的所述锌百分比的范围为80%至100%。
12.如权利要求11的滤片装置,其特征在于,所述第一锌基薄膜中的锌百分比的范围为25%至75%。
13.如权利要求11的滤片装置,其特征在于,所述第一和第二金属层为银或银合金,且所述第一和第二锌基层为锌钖合金层。
14.如权利要求10的滤片装置,其特征在于,所述第一锌基薄膜包括位于所述基片和所述第一锌基薄膜之间的铟基薄膜。
15.如权利要求10的滤片装置,其特征在于,所述基片被贴到等离子显示屏上。
16.如权利要求10的滤片装置,其特征在于,所述滤片装置总共有四层所述金属层和五层所述介电层。
17.一种形成光学滤片的方法,其包括以下步骤:
在透明基片上形成多层,以达到目标光学性能,包括溅镀沉积至少一层所述层以包含锌基薄膜,其中锌百分比须小于100%且大于80%;以及
将所述基片贴到一等离子显示屏或车窗上。
18.如权利要求17的方法,其特征在于,所述百分比约为90%。
19.如权利要求17的方法,其特征在于,所述锌基薄膜为氧化锌钖合金。
20.如权利要求17的方法,其特征在于,所述锌基薄膜为氧化ZnAl。
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