[发明专利]用离子有机硅组合物处理表面的方法

权利要求书

1.一种处理无机表面的方法，包括向所述无机表面涂覆由至少一种离子有机硅化合物和水，以及任选的湿润剂、表面活性剂和抗菌剂组成的水溶液，所述离子有机硅化合物选自下式： 

其中： 

Y是其中n的值为1-10的(CH₂CH₂O)_nOH、或(CH₃OCH₂CH₂O)、或(CH₃CH₂OCH₂CH₂O)； 

a具有0、1和2的值； 

R′是甲基或乙基； 

R″是1-4个碳原子的亚烷基； 

R″′、R″″和R^v是含有1-22个碳原子的烷基且其中至少一个这种基团大于8个碳原子、-CH₂C₆H₅、-CH₂CH₂OH、-CH₂OH、和-(CH₂)_xNHC(O)R^vi，其中x具有2-10的值且R^vi是具有1-12个碳原子的全氟烷基；且 

X为氯离子、溴离子、氟离子、碘离子、醋酸根或甲苯磺酸根； 

其中所述无机表面具有将与通过硅烷烷氧基的水解产生的硅烷醇键合的官能团或反应性位点。 

2.权利要求1的方法，其中所述离子有机硅化合物占所述水溶液的0.1重量％-10重量％。 

3.权利要求1的方法，其中所述涂覆步骤包括将所述水溶液喷涂在所述无机表面上。 

4.权利要求1的方法，其中所述涂覆步骤包括将所述水溶液涂覆在无机表面上。 

5.权利要求4的方法，其中所述无机表面选自混凝土、石膏、煤渣砌块、软泥砖、灰砂砖、排水瓦管、瓷砖、砂石、墁灰、粘土砖、岩石、屋瓦、硅酸钙砖、水泥品、熔渣石和熔渣砖、石灰石、大理石、灰浆、砂浆、水磨石、灰渣、浮石、陶土、赤陶、瓷器、砖坯、珊瑚、白云石和沥青。 

6.权利要求1的方法，包括： 

i)将所述至少一种离子有机硅化合物溶解在水中形成离子有机硅化合物的水溶液； 

ii)将所述水溶液涂覆在无机表面上；和 

iii)使所述水溶液干燥从而所述至少一种离子有机硅化合物与所述无机表面上存在的反应性位点结合以在所述无机表面上形成保护性疏水层。 

7.权利要求6的方法，其中所述至少一种离子有机硅化合物占所述水溶液的0.1重量％-10重量％。 

8.权利要求7的方法，其中所述至少一种离子有机硅化合物是3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基二甲基十八烷基氯化铵、3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基甲基二癸基氯化铵、和3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基二甲基十六烷基氯化铵中的至少一种。 

9.权利要求8的方法，其中涂覆所述水溶液的步骤选自将所述水溶液刷涂、辊涂和喷涂到所述无机表面上的至少一种。