[发明专利]烹调装置有效
申请号: | 200680055820.4 | 申请日: | 2006-12-07 |
公开(公告)号: | CN101512234A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 黄根在;李英敏 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | F24C7/08 | 分类号: | F24C7/08 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 刘建功;车 文 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烹调 装置 | ||
1.一种烹调装置,包括:
烹调腔,所述烹调腔设置有形成在所述烹调腔的两个相对横向侧的一个中的第一开口和形成在所述烹调腔的两个相对横向侧的另一个中的第二开口;
设置在位于所述烹调腔后方的后部空间中的部件室;
第一流径,所述第一流径通过所述第一开口将流从所述后部空间导入所述烹调腔中,并通过所述第二开口将流从所述烹调腔引导出来;以及
第二流径,所述第二流径从所述后部空间延伸,使得当所述第一流径将流从所述第二开口引导出来时所述第二流径与所述第一流径相交,其中所述第二流径将所述流驱赶至所述烹调装置的外部。
2.如权利要求1所述的烹调装置,还包括:
位于所述烹调腔下方的下部空间,其中所述第二流径将所述流从所述烹调腔中的所述第二开口导向至所述下部空间,且朝向设置在所述下部空间中的出口。
3.如权利要求1所述的烹调装置,还包括:
流导向件,所述流导向件设置在位于所述烹调腔后方的所述后部空间中,其中所述流导向件通过所述后部空间引导由设置在所述后部空间中的风扇产生的流并通过所述第一开口将所述流导向至所述烹调腔中。
4.如权利要求1所述的烹调装置,还包括:
形成于所述烹调腔的上侧的第三开口,其中在所述后部空间中产生流,并且在所述后部空间中产生的所述流的一部分通过所述第一开口和所述第三开口进入所述烹调腔。
5.如权利要求4所述的烹调装置,还包括:
磁控管,所述磁控管将微波提供至所述烹调腔,其中,在所述后部空间中产生的所述流穿过所述磁控管且然后穿过所述烹调腔中的所述第一开口。
6.如权利要求4所述的烹调装置,还包括:
用于打开和关闭所述烹调腔的门,其中,通过所述第三开口进入所述烹调腔的流沿着所述门在所述烹调腔内运动。
7.如权利要求1-6中任一项所述的烹调装置,还包括:
位于所述烹调腔上方的上部空间;
位于所述烹调腔的相对横向侧的第一侧部空间和第二侧部空间;
位于所述烹调腔下方的下部空间;以及
冷却流径,所述冷却流径从所述后部空间穿过所述上部空间和/或所述侧部空间延伸至所述下部空间,其中在所述后部空间内产生的流沿着所述冷却流径运动,并且其中所述冷却流径与通过所述烹调腔中的所述第二开口流出的流相交并通过所述下部空间将所流出的流驱赶至所述烹调装置的外部。
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