[发明专利]用于低折射层的涂层组合物、使用其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的图像显示装置有效

专利信息
申请号: 200680055867.0 申请日: 2006-12-21
公开(公告)号: CN101511955A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 成允贞;姜景求;林亨泰;李莹哲 申请(专利权)人: 第一毛织株式会社
主分类号: C09D127/12 分类号: C09D127/12;C09D4/02;C09D133/10;C09D183/04;C08L27/12;C08L33/10;C08L83/04;G02B1/10;G02B1/11;C08F20/22
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;张 英
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 折射 涂层 组合 使用 反射 以及 包括 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种用于形成低折射率层的涂层组合物,包含:

(a)由以下化学式1表示的氟化合物;

(b)活性硅化合物;

(c)(甲基)丙烯酸酯化合物;

(d)聚合引发剂;以及

(e)溶剂:

化学式1

(CH2=CR1COO)2Rf

其中Rf是C1-19全氟代基团,而R1是氢原子或甲基,

其中,所述化学式1中的Rf由以下化学式2表示:

化学式2

其中Rf1是直链C1-10全氟代基团,而Rf2、Rf3、Rf4、以及 Rf5各自是直链C1-14全氟代基团,

其中,基于100重量份的所述组合物的固体含量,所述 组合物包括:

(a)70-95重量份的由化学式1表示的所述氟化合物;

(b)0.1-15重量份的所述活性硅化合物;

(c)1-20重量份的所述(甲基)丙烯酸酯化合物;以及

(d)0.1-10重量份的所述聚合引发剂,

其中,所述硅化合物由以下化学式5或6表示:

化学式5

其中彼此相同或不同的X1、X2、以及X3各自是氢或甲基, 彼此相同或不同的R1和R2的至少之一是可固化活性基团,以 及c是3至1000的整数;或

化学式6

其中彼此相同或不同的X1和X2各自是氢或甲基,彼此相 同或不同的R1和R2中的至少之一是可固化活性基团,以及c 是3至1000的整数。

2.根据权利要求1所述的组合物,其包括由以下化学式1表示的 彼此不同的两种或更多种氟化合物:

化学式1

(CH2=CR1COO)2Rf

其中Rf是选自由以下化学式2表示的官能团中的一种, 而R1是氢原子或甲基;

化学式2

其中Rf1是直链C1-10全氟代基团,Rf2、Rf3、Rf4、以及Rf5各自是直链C1-14全氟代基团。

3.根据权利要求1所述的组合物,其包括由化学式1和以下化学 式3表示的彼此不同的两种或更多种氟化合物:

化学式3

其中Rf是C1-18和F3-37全氟代基团,A是脱水多元醇残基, R是氢原子或甲基,以及a是1至3的整数。

4.根据权利要求1所述的组合物,其中,基于100重量份的所述 组合物的固体含量,所述活性硅化合物的用量为0.2-10重量 份。

5.根据权利要求2所述的组合物,其中,基于100重量份的氟化 合物的总量,彼此不同的所述两种或更多种氟化合物的每一种 的用量为10或更多重量份。

6.根据权利要求1所述的组合物,其中,基于用于形成低折射率 层的涂层溶液的总量,包括所述组合物的所述(a)、(b)、 (c)以及(d)的所述固体含量为1-20重量份。

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