[发明专利]电子器件模块及其制造方法无效
申请号: | 200680056145.7 | 申请日: | 2006-11-30 |
公开(公告)号: | CN101529573A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 理查德·马茨;露特·门纳;斯特芬·沃尔特 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/14;H01L23/373 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王 萍;李春晖 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子器件 模块 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种电子器件模块,其具有至少一个多层的电路支承体和 带有冷却体的冷却装置。此外,本发明还涉及一种用于制造这种电子器件 模块的方法。
背景技术
已公开了带有多个多层电路支承体的电子器件模块。这些电子器件模 块例如通过LTCC(低温共烧陶瓷)来制成,LTCC是一种用于由多个单 个层制造陶瓷电路支承体的高效率的技术。为此,用于通过冲裁进行电穿 通接触的、未烧结的陶瓷生片设置有开口,其中开口被填充以导电膏,并 且这些膜在其表面上以丝网印刷方法设置有平坦的线路结构。多个这种单 个的层最后可以彼此层压并且在较低的温度情况下烧结。该工艺提供了掩 埋的多层布局结构(Layout-Strukturen),这些布局结构可以用于集成无 源的电路元件。此外,由此可以实现具有非常好的高频特性、气密地密封 并且具有良好的耐热性的布局结构。借助这些特性,LTCC技术适于应用 在不利的环境(例如适于传感器)中,适于应用在高频技术(例如移动无 线电和雷达领域)中,以及适于应用在功率电子设备(例如车辆电子设备、 传动控制装置和发动机控制装置)中。然而,在热的方面要求高的应用通 常由于材料的较差的导热能力而受到限制,其中材料典型地具有2W/m K 的导热能力。为了冷却有源半导体器件(作为表面安装部件,这些半导体 器件通常是这种LTCC模块的部分),简单地将LTCC衬底安装在冷却体 上并不足够。特别地,将LTCC衬底焊接或者粘合到冷却体上,如在J. Schulz-Harder等人所著的“Micro channel water cooled power modules”, 1至6页,PCIM 2000 Nuernberg中所描述的那样,并不足够。
LTCC陶瓷在标准工艺中与银金属化物兼容。因此,针对LTCC衬 底的一个常见解决方案是集成热通孔。通孔是垂直的穿通接触部,它们被 以含银的导电膏填充,并且主要用于散热。通过这种方式,可以实现20 W/m K的平均导热能力。与含银的膜结合,能够在垂直或者水平方向上 实现90W/m K和150W/m K的值。这由M.A.Zampino等人所著的 “LTCC substrates with internal cooling channel and heat exchanger”, Proc.Internat.Symp.on Microelectronics 2003,Internat. Microelectronics and Packaging Society(IMAPS),18.-20.11.2003, Boston,USA公开。
另一解决方案是,将具有高损耗热的半导体IC(集成电路),例如功 率放大器,在LTCC电路板的凹进部分中直接安装在散热器上。
此外,公开了如下解决方案:这些解决方案基于流体填充的通道的集 成。在此,冷却通过具有高热容的流体(例如水)的对流来进行,如在上 面提及的、根据J.Schulz-Harder等人所著的“Micro channel water cooled power modules”的现有技术中以及此外在M.A.Zampino等人所著的 “Embedded heat pipes with MCM-C Technology”,Proc.NEPCON West 1998 Conference Vol.2,Reed Exhibition:Norwalk,CT USA 1998,777- 785页,第2卷,(Conf.Anaheim,USA,1.-5.03.1998)中所描述的那样。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造