[发明专利]表面处理装置有效
申请号: | 200680056849.4 | 申请日: | 2006-12-27 |
公开(公告)号: | CN101568393A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 杉浦裕;滨田良介;植村哲朗;中田英树 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
主分类号: | B05C3/08 | 分类号: | B05C3/08;B05C11/08;B08B3/02;C25D17/22 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 方晓虹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种对小零件进行表面处理的表面处理装置。所谓小零件,是指例如0.5~5000μm的粉状体、片状电容器、二极管、连接器、簧片开关、钉子、螺栓、螺母、垫片等小型零件。
背景技术
作为用于对小零件进行表面处理的表面处理装置,例如已知专利文献1、2所示的装置。这些装置通过一边使收容有小零件的处理容器旋转一边在处理容器内注入表面处理液,来对小零件进行表面处理。
专利文献1:日本专利特表平11-505295号公报
专利文献2:美国专利第5879520公报
发明的公开
发明所要解决的技术问题
然而,以往的上述装置存在表面处理液的飞散或泄漏会弄脏装置的内部和外部的问题。
另外,在对小零件进行表面处理时,通常是在进行了第一表面处理后利用期望的金属进行第二表面处理。即,进行两种表面处理。通常,两种表面处理中使用的表面处理液分别进行回收并重复使用。因此,在用一台表面处理装置进行两种表面处理时,理想的是将各表面处理液不相混地严密分开并加以回收。然而,以往的一台表面处理装置并不能很好地实现这样的回收。
本发明的目的在于提供一种能防止装置的内部和外部被弄脏的表面处理装置,还在于提供一种主要效果是在一台装置中能将两种表面处理液严密分开地加以回收并重复使用的表面处理装置。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明的第一形态的表面处理装置是一种用于一边使收容有小零件的处理容器旋转一边对小零件进行表面处理的表面处理装置,其特征在于,包括:具有使液体从内向外流出的液体流出机构、并能收容小零件的处理容器;从下方围绕处理容器的承接槽;设置成从上方封住承接槽、在中央具有开口的盖体;将表面处理液朝处理容器内供给的表面处理液供给机构;以及将清洗水朝处理容器内供给的清洗水供给机构,在一边使处理容器旋转一边使表面处理液供给机构动作时,朝处理容器内供给表面处理液并利用液体流出机构使表面处理液从处理容器流出,对小零件进行表面处理,在一边使处理容器旋转一边使清洗水供给机构动作时,朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从处理容器流出,对小零件进行清洗,另外,还包括使清洗水朝盖体的内表面和/或处理容器的外表面喷出的第一清洗机构,在一边使处理容器旋转一边使第一清洗机构动作时,对盖体的内表面和/或处理容器的外表面进行清洗。
本发明的第二形态的表面处理装置是一种用于一边使收容有小零件的处理容器旋转一边对小零件进行表面处理的表面处理装置,其特征在于,包括:具有使液体从内向外流出的液体流出机构、并能收容小零件的处理容器;从下方围绕处理容器的承接槽;设置成从上方封住承接槽、在中央具有开口的盖体;将表面处理液朝处理容器内供给的表面处理液供给机构;以及将清洗水朝处理容器内供给的清洗水供给机构,在一边使处理容器旋转一边使表面处理液供给机构动作时,朝处理容器内供给表面处理液并利用液体流出机构使表面处理液从处理容器流出,对小零件进行表面处理,在一边使处理容器旋转一边使清洗水供给机构动作时,朝处理容器内供给清洗水并利用液体流出机构使清洗水从处理容器流出,对小零件进行清洗,另外,还包括使盖体相对于承接槽开闭的开闭机构,开闭机构使盖体以水平状态从封住承接槽的位置升降至规定高度位置,再使盖体从该规定高度位置移动以从承接槽离开。
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