[发明专利]利用能更换的单独喷射端限流器的阵列的电喷射/电纺丝阵列

权利要求书

1.电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其包括：

(a)在歧管内的加压流质材料共用源；

(b)两个或更多个喷射端的阵列，所述各喷射端由在所述歧管内的加压 流质材料的所述共用源进料以产生液体流动路径；

(c)设置于所述各喷射端从所述加压流质材料源流到所述各喷射端的单 独的液体流动路径内的单独的流动阻抗装置，所述单独的流动阻抗装置包括 以下的一种或多种：(i)公用的能更换的多孔片区、或(ii)在公用的能更换的液 体不能渗透的片中的一个或多个小孔；

(d)沉积表面；和

(e)高压电源，其适于产生施加在所述喷射端阵列和沉积表面之间的高 压电压。

2.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述加压流质材 料从约0.01psi加压至约100psi。

3.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述流动阻抗装 置位于较大直径的腔的顶上，该较大直径的腔引导流质材料流过所述多孔或 纤维片并进一步进入相连的喷射端中。

4.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中从所述阻抗装置 到所述喷射或纺丝端的流动路径包括将所述喷射或纺丝端延伸到高压电场 中的管。

5.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中从所述阻抗装置 到所述喷射端的流动路径包括内径大于约250微米的管。

6.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述能更换的多 孔片为以下的一种或多种：滤膜、纸张、织造布、多孔陶瓷、压缩的二氧化 硅球、嵌段共聚物、发泡聚合物、膨体聚四氟乙烯膜、开孔泡沫体、或多孔 金属。

7.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中在所述不能渗透 的片中的一个或多个小孔包括直径为约10微米～约200微米的一个或多个 孔或者产生接近约78～约31000平方微米的类似总有效面积的一组较小的 孔。

8.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述多孔片包括 纤维片。

9.权利要求8的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述不能渗透的 片中的所述一个或多个小孔通过机械钻孔、激光钻孔、电化学蚀刻、电铸、 冲孔、穿孔中的一种或多种，或者通过穿过所述液体不能渗透的片的加热的 尖状物以机械方式形成。

10.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中含有所述孔的所 述不能渗透的片能从接近所述喷射端流体开口处移开。

11.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中含有所述孔的所 述不能渗透的片附着于框架上，当将该框架插入到所述歧管中时，对该框架 进行分度以使能移动的孔接近所述喷射端流体开口。

12.权利要求10的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中当所述不能渗 透的片装配在所述歧管中时，该不能渗透的片中的孔位于所述歧管中较大直 径的腔的顶上，所述腔引导流质材料流从所述孔流出并进一步进入瞬时喷射 端流动路径中。

13.权利要求11的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中当所述不能渗 透的片装配在所述歧管中时，该不能渗透的片中的孔位于所述歧管中较大直 径的腔的顶上，所述腔引导流质材料流从所述孔流出并进一步进入瞬时喷射 端流动路径中。

14.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述流动阻抗装 置能从接近所述喷射端流体路径处移开。

15.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其中所述多孔片包括 多于一层的片。

16.权利要求1的电流体力学喷射/纺丝沉积系统，其包括一个或多个歧 管，其中各歧管具有相同的材料或不同的材料。