[发明专利]电阻型有机存储装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710004747.4 申请日: 2007-01-30
公开(公告)号: CN101237028A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 李光熙;崔太林;周原提;李相均 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40;C08L65/00;C08L39/04;C08L79/00;C08L49/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴;巫肖南
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 电阻 有机 存储 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1. 有机存储装置,其包括第一电极、第二电极和介于第一电极和第二电极之间的有机活性层,其中该有机活性层由导电聚合物和下式1的金属茂化合物的混合物形成:

CpMCp’(1)

其中Cp和Cp’均独立地为未取代的或被选自R和OR的至少一个取代基所取代的环戊二烯基或茚基(其中各R相同或相异,为C1-20烷基、C3-20环烷基、C5-30杂环烷基、C2-20链烯基、C6-20芳基、C5-30杂芳基、C7-20芳烷基或C7-30杂芳烷基);和

M为Fe、Ru或Zr。

2. 权利要求1的有机存储装置,其中金属茂化合物由下面的式2或式3表示:

其中,R1-R4彼此相同或相异,独立地为氢原子、C1-20烷基、C3-20环烷基、C5-30杂环烷基、C2-20链烯基、C6-20芳基、C5-30杂芳基、C7-20芳烷基或C7-30杂芳烷基,和

M为Fe、Ru或Zr;或者

其中R1和R2彼此相同或相异,独立地为氢原子、C1-20烷基、C3-20环烷基、C5-30杂环烷基、C2-20链烯基、C6-20芳基、C5-30杂芳基、C7-20芳烷基或C7-30杂芳烷基,和

M为Fe、Ru或Zr。

3. 权利要求1的有机存储装置,其中金属茂化合物是由下面的式4表示的二茂铁化合物:

其中R1-R4彼此相同或相异,独立地为氢原子、C1-20烷基、C3-20环烷基、C5-30杂环烷基、C2-20链烯基、C6-20芳基、C5-30杂芳基、C7-20芳烷基或C7-30杂芳烷基。

4. 权利要求1的有机存储装置,其中导电聚合物选自聚噻吩、聚乙烯基咔唑、聚苯胺、聚吡咯、聚亚苯基亚乙烯基、聚芴和聚乙炔。

5. 权利要求4的有机存储装置,其中导电聚合物选自聚(3-己基噻吩-2,5-二基)、聚(9-乙烯基咔唑)、聚苯胺(翠绿亚胺碱)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-亚苯基亚乙烯基]和聚(9,9-双十二烷基亚芴-2,7-基亚乙炔基)。

6. 权利要求1的有机存储装置,其中导电聚合物和金属茂化合物以约99∶1至约60∶40的比率混合。

7. 权利要求6的有机存储装置,其中导电聚合物和金属茂化合物以约70∶30至约95∶5的比率混合。

8. 权利要求1的有机存储装置,其中第一电极和第二电极由至少一种选自下列的材料制成:金属、金属合金、金属氮化物、金属氧化物、金属硫化物、有机导体、纳米结构体和晶体。

9. 权利要求8的有机存储装置,其中所述电极由至少一种选自下列的材料制成:金、银、铂、铜、钴、镍、锡、钛、钨、铝和氧化铟锡。

10. 权利要求1的有机存储装置,其还包括:

在第一电极下或第二电极上形成的阻挡层。

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