[发明专利]光刻法

权利要求书

1.一种光刻法，其用以图案化多个位于一基板上的区域，依序包括步骤：

利用一辐射束沿一第一方向扫描一第一区域；

步进至邻接于该第一区域的一第二区域，且当该第一区域和一第二区域沿该第一方向观看时，该第二区域位于该第一区域之后；以及

利用所述辐射束沿该第一方向扫描该第二区域，其中所述步进至该第二区域包括沿着一步进方向从该第一区域步进至该第二区域，该步进方向与该第一方向之间的夹角小于20°。

2.如权利要求1所述的光刻法，其中，所述光刻法还包括步骤：

步进至邻接于该第二区域的一第三区域，该第三区域、该第一区域和该第二区域为一长条区，且所述第二区域和所述第三区域两者沿该第一方向观看时，该第三区域位于该第二区域之后；以及

利用该辐射束沿该第一方向扫描该第三区域。

3.如权利要求1所述的光刻法，其中，所述光刻法还包括图案化位于该基板上另一长条区中的多个区域的步骤，该步骤包括：

利用该辐射束沿一第二方向扫描一第五区域；

步进至邻接于该第五区域的一第六区域，且该第五区域和该第六区域两者沿该第二方向观看时，该第六区域位于该第五区域之后；以及

利用该辐射束沿该第二方向扫描该第六区域。

4.如权利要求3所述的光刻法，其中，该第二方向平行于该第一方向。

5.如权利要求3所述的光刻法，其中，该第二方向相反于该第一方向。

6.如权利要求1所述的光刻法，其中，所述扫描该第一区域和扫描该第二区域分别包括扫描包括一浸泡液的每一个区域，该浸泡液位于该基板和一物镜系统之间。

7.如权利要求1所述的光刻法，其中，所述扫描该第一区域和步进至该第二区域包括一扫描速度和一步进速度，该步进速度小于该扫描速度。

8.一种光刻法，用以图案化一基板，所述光刻法包括步骤：

图案化一基板的一第一面积，该第一面积具有多个区域，该多个区域设置于沿第一方向延伸的一长条区的多个空间位置中，包括：

沿着平行于该第一方向的一扫描方向扫描每一个区域；以及

沿着一步进方向从每一个该区域步进至下一个区域，该步进方向与该第一方向之间的夹角小于20°。

9.如权利要求8所述的光刻法，其中，所述光刻法还包括：

图案化该基板的一第二面积，该第二面积包围该第一面积，且该第二面积接近于该基板的边缘。

10.如权利要求9所述的光刻法，其中，所述图案化该第二面积包括：

扫描每一个区域；以及

以最小步进距离从一区域步进至另一区域。

11.如权利要求9所述的光刻法，其中，该第二面积以两个同心圆之间的面积定义。

12.如权利要求11所述的光刻法，其中，所述两个同心圆的半径差值小于55mm。

13.一种光刻法，用以监控制造过程污染，所述光刻法包括：

图案化一第一基板，其具有多个互斥区域，所述多个互斥区域包括相邻的一第一区域和一第二区域，所述图案化该第一基板的步骤包括：

沿一第一方向，以具有一第一移动量的一扫描动作，扫描该第一区域；

然后，沿着一第一步进方向，以具有一第二移动量一第一步进动作从该第一区域步进至该第二区域；以及

沿该第一方向，以具有一第三移动量的一扫描动作，扫描该第二区域，该第二移动量小于该第一移动量和第三移动量，其中该第一步进方向与该第一方向之间的夹角小于20°；

图案化一第二基板，第二基板具有其它的多个互斥区域，所述其它的多个互斥区域包括相邻的一第三区域和一第四区域，所述图案化该第二基板的步骤包括：

沿一第二方向，以具有一第四移动量的一扫描动作，扫描该第三区域；

然后，沿着一第二步进方向，以具有一第五移动量一第二步进动作从该第三区域步进至该第四区域；以及

沿该第二方向，以具有一第六移动量的一扫描动作，扫描该第四区域，该第五移动量小于该第四移动量和第六移动量，其中该第二步进方向相反于该第二方向；以及

比较该第一基板的一污染结果和该第二基板的一污染结果。