[发明专利]一种纳米叠层TiN梯度膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200710011188.X | 申请日： | 2007-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101298655A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 于志明;饶光斌;徐家寅;柯伟;李依依 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 tin 梯度 及其 制备 方法 | ||
1.一种纳米叠层TiN膜的制备方法，其特征在于：以高温合金为基底材料，利用离子镀膜技术沉积纳米叠层TiN膜，该镀膜是在高温合金表面上沉积纳米叠层TiN膜，获得的TiN膜呈层状结构，纳米叠层TiN膜每层厚度为50-100纳米，总厚度可在1.5-3.6微米范围内可调；具体步骤如下：
(1)除去合金表面上的油污，在有机溶剂中超声清洗；
(2)将洗净后的工件装在卡具上并置入离子镀膜设备的真空室内；
(3)工件装入真空室内后，需抽真空至0.013Pa-0.005Pa，然后将工件加热到350℃-450℃，保温20-40分钟；
(4)通氩气对工件进行离子轰击清洗，通氩气使真空室内压力至5Pa-2Pa，给工件加负偏压400-600伏，进行离子轰击清洗5-10分钟；
(5)调整氮气流量、蒸发源束流、负偏压以及沉积时间，于选定的时间周期内调整氮气分压呈周期性梯度变化，具体参数为：时间周期为2-5分钟，蒸发源束流变化范围为200-350A，负偏压变化范围为80-200伏，氮气流量变化范围为0-150毫升/分钟，沉积时间50分-2小时，沉积得到纳米叠层TiN膜；所述调整氮气分压呈周期性梯度变化是指：于周期时间内，氮气流量由0调整到80-150毫升/分钟；再由80-150毫升/分钟调整到0。
2.按照权利要求1所述的纳米叠层TiN膜的制备方法，其特征在于：所述的去除油污是将工件浸入三氯乙烯有机溶液中进行刷洗；超声清洗是把工件放入三氯乙烯有机溶液中通过超声波清洗机清洗。
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