[发明专利]二氧化钛光催化薄膜的低温成膜方法无效
申请号: | 200710011693.4 | 申请日: | 2007-06-11 |
公开(公告)号: | CN101073768A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | 孙冰;朱小梅 | 申请(专利权)人: | 大连海事大学 |
主分类号: | B01J21/06 | 分类号: | B01J21/06;B01J37/34 |
代理公司: | 大连八方知识产权代理有限公司 | 代理人: | 卫茂才 |
地址: | 116026辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 光催化 薄膜 低温 方法 | ||
1、二氧化钛光催化薄膜的低温成膜方法,其特征在于,该方法是用溶胶凝胶法制备二氧化钛溶胶,选用钛酸异丙酯作为前驱体,在基材上涂布二氧化钛溶胶后,直接或经稍微干燥后,用频率为300MHz-30Ghz的高频电场微波照射,加热到90-250℃,微波照射加热时间为1-30min,在基材上快速形成氧化钛薄膜,具体步骤为:
(1)二氧化钛溶胶的制备:
将10-50mL的无水乙醇和1-2mL的二乙醇胺加入到10-50mL的钛酸异丙酯中,再加入1-5mL的蒸馏水水解,搅拌制得淡黄色溶胶;四种物质的加入顺序依次为:钛酸异丙酯、无水乙醇、二乙醇胺、蒸馏水,混合搅拌后形成淡黄色均匀透明的溶胶;
(2)基材的选用:基材选用玻璃,陶瓷,塑料,木材,纸张,布,活性炭中的一种。
(3)二氧化钛薄膜的制备:
将制得的溶胶以涂抹工具滚压于基材上,直接用微波照射,或静置待表面稍微干燥后用微波照射加热1-30min,即在基材上制得所需二氧化钛薄膜,膜体平均表面温度控制在90-200℃之间。
2、根据权利要求1所述的二氧化钛光催化薄膜的低温成膜方法,其特征在于,所述的高频电场微波频率为800MHz到3GHz高频电磁场照射,加热温度为100-200℃。
3、根据权利要求1所述的二氧化钛光催化薄膜的低温成膜方法,其特征在于,所述的塑料为聚乙烯,聚乙烯氯乙稀,聚酯,聚丙烯,丙烯晴-丁二稀-苯乙烯共聚物,聚酰胺,聚四氟乙烯。
4、根据权利要求1所述的二氧化钛光催化薄膜的低温成膜方法,其特征在于,所述的基材的形状可为薄膜状,粒状,板状,球状,圆筒状或带角柱状。
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