[发明专利]一种菱镁矿粉尘污染区坡地的植树法及树坑填充物

说明书

技术领域

本发明涉及植物栽培法，具体为一种菱镁矿粉尘污染区坡地植树法及树坑填充物。

背景技术

我国菱镁矿资源丰富。由于菱镁矿开采锻烧过程中产生大量粉尘(主要成分是MgO)。粉尘沉降到地面后，土壤受到严重污染。据报道，在辽宁省岫岩县偏岭矿区，每天从早到晚都笼罩在浓浓的黑色烟尘之中，阴天时能见度不足50米，形成了一个长达5公里的污染带，大片的山林枯死，土壤被厚厚的烟尘灰覆盖。据不完全统计，辽宁省全省因菱镁矿生产造成的粉尘污染山地290平方公里。我国其他菱镁矿矿区与辽宁省矿区的情况大致相同。菱镁矿生产给农牧业和生态环境带来的严重破坏，给矿区农村经济造成的严重损失。

在受到菱镁矿粉尘严重污染后，土壤pH值显著升高，土壤一般呈碱性甚至是强碱性，土壤水溶性钙离子镁离子严重失调，土壤有效氮、磷、钾含量大幅度降低，土壤容重显著增加，表层土体严重板结，土壤中水分通透性降低、植物生长发育受到严重影响，土地生产力急剧下降。受菱镁矿粉尘污染的坡地，植树成活率较低，树木小老苗现象普遍存在。在表土相对较厚的粉尘污染坡地上，传统的植树方法是将表层土壤移走，在表土下的心土层挖坑植树，费工费力费时，植树成本较高，但效果并不好，原因是心土层土壤肥力较差，土壤容重较大，树苗生长速度较慢；表土层较薄的地方，上述方法难以实现。鉴于上述原因，菱镁矿粉尘污染坡地林木覆盖率较低，水土流失现象也越来越严重。因此，采用一种合适的植树方法，以添加树坑填充物的方法提高树木生长的土壤肥力和水分供应，调节树木的生长环境，对于改善矿区生态环境，提高矿区植被覆盖率具有重要意义。

发明内容

本发明的目的在于提供一种适合菱镁矿粉尘污染坡地植树法及树坑填充物，解决菱镁矿粉尘污染坡地林木覆盖率较低，水土流失现象也越来越严重等问题。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

采用鱼鳞坑反坡阶整地，挖坑时不同层次土壤分开堆放，表土与底土分开，无污染土壤备用；在挖掘好的树坑中先填入挖掘树坑时挖出的表土，然后将树坑填充物与原位挖出的无污染土壤或客土混合均匀填入树坑中，再填入底土或客土。

树坑长40-60厘米、宽40-60厘米、深50-70厘米，树坑中的土壤由表层、中间层和底层构成，表层厚度为5-15厘米，底层厚度为5-15厘米，中间层厚度为20-40厘米；表层为底土或客土，中间层为填充物与原位挖出的无污染土壤或客土均匀混合而成。

树坑填充物按重量份数计，每个树坑投入的填充物为有机物料50-80份、磷石膏5-10份、工业硫磺0.5-1.0份、缓释化肥0.5-1.0份；填充物的重量占树坑的中间层土壤和填充物总重量的5-15％。

本发明具有如下优点：

1.本发明树坑填充物的原料充足，价格低廉，并且可将畜禽粪便、农作物秸秆、城乡生活垃圾等有机废弃物和磷石膏等工业废弃物资源化利用，从而保护生态环境，无污染。

2.本发明树坑填充可有效中和菱镁矿粉尘污染区土壤中的碱性离子，促进土壤钙镁平衡，提高土壤有机质和有效养分含量，从而提高土地生产力。

3.本发明植树法为采用鱼鳞坑反坡阶整地，挖掘栽植坑，利用置土或客土并与填充物混合进行坡地植树。该植树法简单易行，具有提高树苗成活率及生长速度，具有修复土壤和植被，减少水土流失的功效。

具体实施方式

本发明菱镁矿粉尘污染区坡地的植树法具体如下：

1.树坑的准备

采用鱼鳞坑反坡阶整地(具体方法见白岗栓.陕北丘陵沟壑区不同整地方式对果树生长环境的影响。水土保持通报，1998年第7期11-14)，栽植坑(树坑)树坑长40-60厘米、宽40-60厘米、深50-70厘米。挖坑时不同层次土壤分开堆放，特别是表土与底土要分开，拣出石块堆放在一边，好土备用。

树坑的设置一般按每公顷3000-4000株的造林密度为宜。

2.置土或客土

由于菱镁区粉尘污染区坡地表土已受氧化镁粉尘污染，土壤养分贫脊，pH值较高，因此要置土或客土。如坡地土层较深厚，可以表土与底土对换，上层土壤转换到下层，下层土壤转换到上层，即置土；如土层较脊薄，可在表层添加客土。客土的成本相对较高，一般应选择地点相对较近，运输较方便的地方获得客土来源，客土采用未受菱镁矿粉尘污染的表层土壤。

3.树坑填充物料的准备