[发明专利]点、线、面一体化地物符号形成方法

权利要求书

1、点、线、面一体化地物符号形成方法，包括如下步骤：

A、定义符号图素集合，即点、线和面图素集合，

——点图素的集合表示为PT＝{pt₁，pt₂，pt₃，pt₄，pt₅，pt₆，pt₇，pt₈，pt₉，pt₁₀，pt₁₁}；

——线图素的集合表示为LT＝{lt₁，lt₂，lt₃，lt₄，∑PT_i}；

——面图素集合表示为，RT＝{rt₁，rt₂，∑LT_i ∑PT_j}；

B、点符号的形成，首先选择点图素RT，多个点图素的组合，形成点符号

PS = Σ i = 1 ∞ RT ; ]]>

C、线符号的形成，根据条件来确定是否进行点填充，拓展后的线符号表达为：

LS = Σ i = 1 ∞ LT Sele = 0 Σ i = 1 ∞ LT + PS Sele ≠ 0 ]]>

上式代表的是：先判断是否需要进行点符号的填充算法，如果需要，先选择点符号PS，然后插入到线符号的形成过程中；如果不需要，则按照传统线符号直接通过公式 LS = Σ i = 1 ∞ LT ]]>生成；

D、面符号的形成，面符号包含多个简单面图素，同时允许填充线符号和点符号，线符号填充的变量为SeleL，点符号填充的变量为SeleP，面符号的综合表达为：

RS = Σ i = 1 ∞ RT SeleL = 0 SeleL = 0 Σ i = 1 ∞ RT + PS + LS SeleL ≠ 0 SeleL ≠ 0 Σ i = 1 ∞ RT + PS SeleL = 0 SeleL ≠ 0 Σ i = 1 ∞ RT + LS SeleL ≠ 0 SeleL = 0 ]]>

上式代表的是：是否需要填充的四种情况，先判断是否进行点符号填充，如果需要先选择点符号，然后按照步骤B，填充点符号；如果需要进行线填充，先选择线符号，然后按照步骤C，最后完成线符号的填充；如果都不需要，则按照传统面符号的形成方法 RS = Σ i = 1 ∞ RT ]]>生成面符号。