[发明专利]一种耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制作方法有效
申请号: | 200710024321.5 | 申请日: | 2007-06-13 |
公开(公告)号: | CN101323672A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 朱艾成;许惠麟;郭振报;聂伟民;朱浩;杨广生;孙志荣 | 申请(专利权)人: | 江苏冰城电材有限公司 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L79/08;C08K5/17;C08K5/09;C08K3/36;C08K3/22 |
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地址: | 212323江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电晕 聚酰亚胺 薄膜 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种化学制品,具体地说是一种耐电晕聚酰亚胺薄膜 及其制作方法。
背景技术
国内对耐电晕聚酰亚胺薄膜的研究,还处在高校或研究院所的试 验室里做一些探讨性的理论研究,远远没有达到工业化生产的水平。 而对美国杜邦公司耐电晕聚酰亚胺薄膜分析,我们认为其在耐电晕性 能还不够好。
发明内容
针对以上的不足,本发明提供耐电晕聚酰亚胺薄膜及其制作方 法,具有良好的耐电晕性能,同时制作工艺优良,成品率高。
为了达到以上目的,本发明采用以下技术方案,一种耐电晕聚酰 亚胺薄膜,它主要包括均苯四甲酸二酐、4.4′二氨基二苯基醚和纳 米级金属氧化物,所属纳米级金属氧化物的粒径≤50纳米。
本发明的进一步优化为:一种耐电晕聚酰亚胺薄膜,所述金属氧 化物为二氧化钛、三氧化二铝和二氧化硅中的一种或多种。
上述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制作方法如下:
A)聚酰亚胺酸溶液制作——将均苯四甲酸二酐在反应釜与溶 液N,N′二甲基乙酰胺均匀混合,然后加入4.4′二氨基二苯基醚反 应生成聚酰亚胺酸溶液;
B)悬浮体制作——在高速剪切分散器中将纳米级金属氧化物 (包括二氧化钛、三氧化二铝和二氧化硅中的一种或多种)与N,N′ 二甲基乙酰胺制成稳定均匀的悬浮体;
C)搅拌——将A步骤制作好的聚酰亚胺酸溶液和B步骤制作 好的悬浮体加入到混合釜中,利用超声波机,充分搅拌均匀;
D)流涎——将C步骤制作好的均匀混合液加入到流涎机中流 涎;
E)烘干——将经D步骤流涎所得的物品去除溶剂N,N′二甲 基乙酰胺,然后在热风循环烘房中烘干成膜;
F)亚胺化处理——将经E步骤烘干制得的物品进行亚胺化处 理制得耐电晕聚酰亚胺薄膜。
由于本发明采用以上技术方案,本发明具有以下优点:由于本发 明采用了纳米材料,同时在高速剪切分散器中将纳米级金属氧化物与 N,N′二甲基乙酰胺制成稳定均匀的悬浮体,所以产品用本发明制作 的耐电晕聚酰亚胺薄膜具有良好的耐电晕性能,同时制作工艺优良, 成品率高。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明
实施例一
它主要包括均苯四甲酸二酐、4.4′二氨基二苯基醚和纳米级金 属氧化物,所属纳米级金属氧化物的粒径≤50纳米。所述金属氧化物 二氧化钛(也可以为三氧化二铝或者二氧化硅,也可以是三者中的二 种或三种的混合物)。各组份的配比为:均苯四甲酸二酐与4.4′二 氨基二苯基醚按摩尔比1:1,以均苯四甲酸二酐与4.4′二氨基二苯 基醚混合物的重量为1,纳米级金属氧化物则为4%。
上述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制作方法如下:
G)聚酰亚胺酸溶液制作——将均苯四甲酸二酐在反应釜与溶 液N,N′二甲基乙酰胺均匀混合,然后加入4.4′二氨基二苯基醚反 应生成聚酰亚胺酸溶液;
H)悬浮体制作——在高速剪切分散器中将纳米级金属氧化物 (包括二氧化钛、三氧化二铝和二氧化硅中的一种或多种)与N,N′ 二甲基乙酰胺制成稳定均匀的悬浮体(制作中加入表面活性剂和悬浮 剂);
I)搅拌——将A步骤制作好的聚酰亚胺酸溶液和B步骤制作 好的悬浮体加入到混合釜中,利用超声波机,充分搅拌均匀;
J)流涎——将C步骤制作好的均匀混合液加入到流涎机中流 涎;
K)烘干——将经D步骤流涎所得的物品去除溶剂N,N′二甲 基乙酰胺,然后在热风循环烘房中烘干,形成薄膜;
L)亚胺化处理——将经E步骤烘干制得的物品进行亚胺化处 理制得耐电晕聚酰亚胺薄膜。
实施例二
同实施例一的一种耐电晕聚酰亚胺薄膜,其不同点在于,以均苯 四甲酸二酐与4.4′二氨基二苯基醚混合物的重量为1,纳米级金属 氧化物则为8%。
实施例三
同实施例一的一种耐电晕聚酰亚胺薄膜,其不同点在于,以均 苯四甲酸二酐与4.4′二氨基二苯基醚混合物的重量为1,纳米级金 属氧化物则为12%。
实施例四
同实施例一的一种耐电晕聚酰亚胺薄膜,其不同点在于,以均苯 四甲酸二酐与4.4′二氨基二苯基醚混合物的重量为1,纳米级金属 氧化物则为16%。
除上述实施例外,本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替 换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明要求的保护范围内。
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