[发明专利]β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710027963.0 申请日: 2007-05-11
公开(公告)号: CN101050222A 公开(公告)日: 2007-10-10
发明(设计)人: 王彪;童碧海;凌福日;方园;孟跃中;王拴紧 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C07F7/18 分类号: C07F7/18;C08K5/54
代理公司: 广州粤高专利代理有限公司 代理人: 陈卫
地址: 510275广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 修饰 硅烷偶联剂 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂,其分子式为

其中A为1~6个碳原子的烷氧基;

m=0、1或2;

Ra为含1~9个碳原子的二价烃基;

Rb为含一个或多个β-二酮或β-二酮酯结构的,有4到20个碳原子的有机官能团。

2.如权利要求1所述的β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂,其特征在于所述A为CH3O-、CH3CH2O-、CH3CH2CH2O-、CH3CH2CH2CH2O-、(CH3)2CHO-、CH2=C(CH3)O-、CH3CH=C(CH3)O-或

3.如权利要求1所述的β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂,其特征在于所述Ra为-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、

4.如权利要求1所述的β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂,其特征在于所述Rb

其中,R1为含1~9个碳原子的二价烃基,R2、R3均为含1~6个碳原子的一价烃基。

5.如权利要求4所述的β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂,其特征在于所述R1为-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、

所述R2、R3为CH3-、CH3CH2-、CH3CH2CH2-、CH3CH2CH2CH2-、CF3-、CF3CF2-、

6.权利要求1所述β-二酮修饰的含硫硅烷偶联剂的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1摩尔份带烯键的β-二酮,加入1~2摩尔份带巯基的硅烷偶联剂,加入0.01~0.05摩尔份的引发剂或紫外光照引发,并加入有机溶剂溶解,氮气保护下,在20~100℃的温度下,反应0.5~8小时,蒸除有机溶剂,得到β-二酮修饰的硅烷偶联剂。

7.如权利要求6所述的制备方法,其特征在于所述引发剂为偶氮类引发剂、有机过氧类引发剂或氧化还原引发剂。

8.如权利要求7所述的制备方法,其特征在于所述偶氮类引发剂为偶氮二异丁睛或偶氮二异庚睛;所述有机过氧类引发剂为异丙苯过氧化氢、叔丁基过氧化氢、苯甲酰、过氧化二异丙苯或过氧化二叔丁基;所述氧化还原引发剂为过氧化苯甲酰-N,N-二甲基苯胺或K2S2O8-NaHSO3-偶氮二异丁睛。

9.如权利要求6所述的制备方法,其特征在于所述有机溶剂为极性非质子型溶剂。

10.如权利要求9所述的制备方法,其特征在于所述极性非质子型溶剂为苯、甲苯、二甲苯、四氢呋喃、丙酮、乙腈、二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺或六甲基邻酰三胺。

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