[发明专利]一种清洗液及其应用无效
| 申请号： | 200710038406.9 | 申请日： | 2007-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101270325A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;王麟 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;H01L21/304;C11D7/18;C11D7/26 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1. 一种清洗液，其特征在于：含有至少一种氧化剂、至少一种胍类化合物和水。
2. 根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的胍类化合物为胍、碳酸胍、乙酸胍、磷酸氢二胍、盐酸胍、硝酸胍、硫酸胍、氨基胍、氨基胍碳酸氢盐、氨基胍磺酸盐、氨基胍盐酸盐或氨基胍硝酸盐。
3. 根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的胍类化合物的含量为质量百分比0.01-10％。
4. 根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化脲、过氧甲酸或过氧乙酸。
5. 根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的氧化剂的含量为质量百分比0.1-10％。
6. 根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液的pH值为7～12。
7. 根据权利要求6所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液的pH值为8～11。
8. 根据权利要求1所述的清洗液在化学机械抛光后晶片清洗中的应用。
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