[发明专利]多晶硅化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200710039245.5 | 申请日： | 2007-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN101280158A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;王麟 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多晶 化学 机械抛光 | ||
1. 一种多晶硅的化学机械抛光液，其特征在于：含有多元醇型非离子表面活性剂、胍类化合物、研磨颗粒和水。
2. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的多元醇型非离子表面活性剂为多元醇与脂肪酸经酯化反应生成的酯类表面活性剂和/或聚乙二醇表面活性剂。
3. 根据权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的酯类表面活性剂为多元醇脂肪酸酯R1OmHm-n(OCR2)n、聚乙二醇脂肪酸酯R2COO(CH2CH2O)pH或R2COO(CH2CH2O)pOCR2、聚氧乙烯多元醇脂肪酸酯R1OmHm-n(CH2CH2O)p(OCR2)n，其中，R1(OH)m为2≤m≤8的多元醇，4≤p≤120，R2COOH为碳原子数为8～22的脂肪酸，n＝1～4且m≥n。
4. 根据权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的多元醇为乙二醇、一缩二乙二醇、二缩三乙二醇、丙二醇、甘油、聚甘油、聚氧乙烯甘油、季戊四醇、失水木糖醇、聚氧乙烯失水木糖醇、山梨醇、聚氧乙烯山梨醇、失水山梨醇、聚氧乙烯失水山梨醇、蔗糖或聚乙二醇。
5. 根据权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的聚乙二醇表面活性剂为分子量为200～20000的聚乙二醇。
6. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的多元醇型非离子表面活性剂的含量为重量百分比0.0001～20％。
7. 根据权利要求6所述的抛光液，其特征在于：所述的多元醇型非离子表面活性剂的含量为重量百分比0.001～10％。
8. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的胍类化合物为胍、碳酸胍、乙酸胍、磷酸氢二胍、盐酸胍、硝酸胍、硫酸胍、氨基胍、氨基胍碳酸氢盐、氨基胍磺酸盐、氨基胍硝酸盐或氨基胍盐酸盐。
9. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的胍类化合物的含量为重量百分比0.001～3％。
10. 根据权利要求9所述的抛光液，其特征在于：所述的胍类化合物的含量为重量百分比0.01～2％。
11. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和/或高分子研磨颗粒。
12. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的粒径为20～150nm。
13. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的含量为重量百分比0.5～30％。
14. 根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH值为8～12。
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